[實用新型]一種用于測定氮含量的分析設備

有效

• 申請號: 201620500855.5
• 申請日: 2016-05-27
• 公開（公告）號: CN206208853U
• 公開（公告）日: 2017-05-31
• 發明（設計）人: 周裕紅;王軍;聶明達;郭立新;朱晶晶;余欣雨
• 申請（專利權）人: 鼎泰（湖北）生化科技設備制造有限公司
• 主分類號: G01N31/12
• 分類號: G01N31/12
• 代理公司: 北京華沛德權律師事務所11302
• 代理人: 房德權

技術領域

本實用新型屬于檢測技術領域，特別涉及一種用于測定氮含量的分析設備。

背景技術

全氮/蛋白質含量的測定廣泛應用于乳制品、食品、動物飼料、谷物、肥料、煙草、植物等產品的檢測，傳統的檢測手段為凱氏定氮法，它作為工業標準已執行多年，但使用腐蝕性酸堿、操作步驟繁復、耗時長及環境污染嚴重已難以滿足現今檢測發展的需要。具體地，它是在有催化劑的條件下，用濃硫酸消化樣品將有機氮都轉變成無機銨鹽，然后在堿性條件下將銨鹽轉化為氨，隨水蒸氣餾出并為過量的酸液吸收，再以標準酸滴定，從而計算出樣品中的含氮量，即主要檢測過程為消解→蒸餾→滴定。消解和滴定過程主要是以人工方式，過程煩復而耗時，對操作人員要求較高且誤差產生的可能性較大。更重要的是，消解過程中需使用強酸，對操作人員的安全也存在很大隱患，并且耗時長、工作量大，使檢測效率較低，遠遠不能滿足相關檢測單位的需要。

實用新型內容

本實用新型提供一種用于測定氮含量的分析設備，解決了或部分解決了現有技術中使用腐蝕性酸堿、操作步驟繁復、耗時長及環境污染嚴重等技術缺陷。

依據本實用新型的一個方面，提供了一種用于測定氮含量的分析設備，包括：燃燒裝置，用于待測樣品的燃燒，并產生混合氣體；除水裝置，所述除水裝置與所述燃燒裝置連接，用于去除經過所述燃燒裝置燃燒后產生的混合氣體中的水分；其中，所述除水裝置包括：一級除水機構；二級除水機構，所述一級除水機構和所述二級除水機構相并聯，且并聯后的一端與所述燃燒裝置連接，以接收所述燃燒裝置燃燒后產生的混合氣體；三級除水機構，所述三級除水機構與并聯后的所述一級除水機構和所述二級除水機構的另一端連接，使得所述三級除水機構分別與所述一級除水機構、二級除水機構相串聯，以通過所述三級除水機構接收經過所述一級除水機構和所述二級除水機構除水處理后的混合氣體；還原裝置，所述還原裝置與所述三級除水機構連接，使得從所述三級除水機構出來后的混合氣體在所述還原裝置中被還原；凈化裝置，所述凈化裝置與所述還原裝置連接，以對還原后的混合氣體進行凈化；其中，所述凈化裝置包括：一級凈化機構；二級凈化機構；所述一級凈化機構和所述二級凈化機構相并聯，且并聯后的一端與所述還原裝置連接，以接收所述還原裝置燃燒后產生的混合氣體；三級凈化機構，所述三級凈化機構與并聯后的所述一級凈化機構和所述二級凈化機構的另一端連接，使得所述三級凈化機構分別與所述一級凈化機構、二級凈化機構相串聯，以通過所述三級凈化機構接收經過所述一級凈化機構和所述二級凈化機構凈化處理后的氣體；檢測裝置，所述檢測裝置與所述凈化裝置連接，以對凈化后的氣體中的氮含量進行檢測；顯示裝置，所述顯示裝置與所述檢測裝置連接并進行信號傳遞，以接收所述檢測裝置所檢測的數據信息，并對所述數據信息進行顯示；進樣處理裝置，用于對所述待測樣品進行進前期的進樣處理；且所述燃燒裝置垂直地固定于所述進樣處理裝置的上方，使得經過前期的進樣處理后的所述待測樣品通過所述進樣處理裝置，被送入所述燃燒裝置中燃燒。

可選的：所述燃燒裝置是溫度控制在1100℃的燃燒爐；且所述燃燒爐包括：爐體，使得所述待測樣品在所述爐體內部燃燒；電子電力裝置，與所述爐體連接，用于對所述爐體提供1100℃的溫度環境，以使所述待測樣品在所述爐體內充分氧化燃燒；加熱元件，所述加熱元件均勻的設置在所述爐體的內壁上，使所述爐體的內部的溫度在所述爐體內均勻分布。

可選的：所述進樣處理裝置還包括：至少一個取樣器，在垂直方向上每一個所述取樣器均位于所述燃燒裝置的下方；與所述取樣器數量相適配的坩堝，每一個所述坩堝對應地固定于一個所述取樣器上，且至少有一個所述坩堝內放置有所述待測樣品；機械臂，設置有與所述取樣器數量相適配的活動臂，每一個活動臂上對應固定一個所述取樣器，以通過所述活動臂的上下動作帶動相應的所述取樣器上下移動，繼而推動對應地所述坩堝進入所述燃燒裝置中；動力源，所述動力源與所述機械臂連接，以為所述機械臂中所述活動臂的運動提供動力。

可選的：所述還原裝置包括：分流器，所述分流器與所述三級除水機構連接連接，以對由所述三級除水機構輸送出的混合氣體進行分流；還原爐，所述還原爐分別與所述分流器和所述檢測裝置相連，以對分流后的氣體進行還原，并將還原后的氣體送入所述檢測裝置中進行檢測。

可選的：所述還原裝置還包括：傳感器，所述傳感器設置在所述還原爐和所述檢測裝置之間。