[實用新型]一種具有循環(huán)冷卻裝置的電路板曝光機有效
申請?zhí)枺?/td> | 201620453336.8 | 申請日: | 2016-05-18 |
公開(公告)號: | CN205787589U | 公開(公告)日: | 2016-12-07 |
發(fā)明(設(shè)計)人: | 曹志濱;李堯 | 申請(專利權(quán))人: | 佛山市南海區(qū)鑫正化工有限公司 |
主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京科億知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11350 | 代理人: | 肖平安 |
地址: | 528000 廣東省佛山*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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摘要: | |||
搜索關(guān)鍵詞: | 一種 具有 循環(huán) 冷卻 裝置 電路板 曝光 | ||
【權(quán)利要求書】:
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G03 攝影術(shù);電影術(shù);利用了光波以外其他波的類似技術(shù);電記錄術(shù);全息攝影術(shù)
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
G03F7-12 .網(wǎng)屏印刷模或類似印刷模的制作,例如,鏤花模版的制作
G03F7-14 .珂羅版印刷模的制作
G03F7-16 .涂層處理及其設(shè)備
G03F7-20 .曝光及其設(shè)備
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導(dǎo)體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設(shè)備
G03F7-00 圖紋面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工藝;圖紋面照相制版用的材料,如:含光致抗蝕劑的材料;圖紋面照相制版的專用設(shè)備
G03F7-004 .感光材料
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G03F7-20 .曝光及其設(shè)備