[實(shí)用新型]有機(jī)膜蒸鍍裝置及有機(jī)膜裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201620437301.5 | 申請(qǐng)日： | 2016-05-13 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN205999477U | 公開（公告）日： | 2017-03-08 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 樸善淳;李海龍;金榮道;池成勛;洪沅義 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 株式會(huì)社達(dá)文希斯 |
| 主分類號(hào)： | C23C14/26 | 分類號(hào)： | C23C14/26;C23C14/12;H01L51/56;H05B33/10 |
| 代理公司： | 北京鴻元知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11327 | 代理人： | 姜虎,陳英俊 |
| 地址： | 韓國(guó)*** | 國(guó)省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 有機(jī) 膜蒸鍍 裝置 | ||
【說明書】：
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C23 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
- 應(yīng)用有機(jī)材料制作有機(jī)發(fā)光裝置
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