[實(shí)用新型]一種光學(xué)元件激光預(yù)處理系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201620345540.8
• 申請(qǐng)日: 2016-04-21
• 公開（公告）號(hào): CN206216116U
• 公開（公告）日: 2017-06-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王鳳蕊;劉紅婕;耿鋒;蔣曉東;黃進(jìn);李青芝;葉鑫;孫來(lái)喜;周曉燕
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)工程物理研究院激光聚變研究中心
• 主分類號(hào): B23K26/00
• 分類號(hào): B23K26/00
• 代理公司: 北京超凡志成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11371
• 代理人: 吳開磊

1.一種光學(xué)元件激光預(yù)處理系統(tǒng)，其特征在于，包括激光光源、第一反射裝置及第二反射裝置，所述第一反射裝置的反射面與所述第二反射裝置的反射面相互平行，待處理樣品設(shè)置在所述第一反射裝置的反射面與所述第二反射裝置的反射面之間，所述第一反射裝置與所述第二反射裝置之間的距離可調(diào)，所述第一反射裝置、所述待處理樣品以及所述第二反射裝置相互獨(dú)立設(shè)置，所述第一反射裝置與所述第二反射裝置組成反射腔，

所述激光光源發(fā)出的激光光束進(jìn)入所述反射腔，經(jīng)所述反射腔多次反射后對(duì)所述待處理樣品的多個(gè)預(yù)設(shè)處理點(diǎn)進(jìn)行輻照，用以對(duì)所述待處理樣品進(jìn)行激光預(yù)處理。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)元件激光預(yù)處理系統(tǒng)，其特征在于，所述第一反射裝置的第一端高度高于所述第二反射裝置的第一端高度。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)元件激光預(yù)處理系統(tǒng)，其特征在于，所述第一反射裝置與所述第二反射裝置相對(duì)于所述待處理樣品對(duì)稱設(shè)置。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光學(xué)元件激光預(yù)處理系統(tǒng)，其特征在于，相鄰兩個(gè)所述預(yù)設(shè)處理點(diǎn)上的激光光斑之間的距離與所述激光光源發(fā)出的激光光束的入射角及所述反射腔的長(zhǎng)度成預(yù)設(shè)關(guān)系。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學(xué)元件激光預(yù)處理系統(tǒng)，其特征在于，相鄰兩個(gè)所述預(yù)設(shè)處理點(diǎn)上的激光光斑之間的距離為所述激光光斑直徑的預(yù)設(shè)倍數(shù)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光學(xué)元件激光預(yù)處理系統(tǒng)，其特征在于， 所述預(yù)設(shè)倍數(shù)為

7.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的光學(xué)元件激光預(yù)處理系統(tǒng)，其特征在于，還包括用于調(diào)節(jié)所述待處理樣品位置的平移臺(tái)，所述待處理樣品設(shè)置在所述平移臺(tái)上。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光學(xué)元件激光預(yù)處理系統(tǒng)，其特征在于，還包括導(dǎo)軌，所述第一反射裝置、所述第二反射裝置和所述平移臺(tái)均設(shè)置在所述導(dǎo)軌上，所述第一反射裝置、所述第二反射裝置和所述平移臺(tái)能夠沿所述導(dǎo)軌滑動(dòng)。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)元件激光預(yù)處理系統(tǒng)，其特征在于，所述待處理樣品的正面一側(cè)或背面一側(cè)設(shè)置有激光光束吸收裝置。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)元件激光預(yù)處理系統(tǒng)，其特征在于，所述第一反射裝置和所述第二反射裝置均為激光高反鏡。