[實用新型]一種真空鍍膜機的磁控濺射靶裝置有效
| 申請號： | 201620325686.6 | 申請日： | 2016-04-18 |
| 公開（公告）號： | CN205590793U | 公開（公告）日： | 2016-09-21 |
| 發明（設計）人： | 丁進金 | 申請（專利權）人： | 紹興鑫興紡織鐳射科技有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 312000 浙江省紹興市袍*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 真空鍍膜 磁控濺射 裝置 | ||
【權利要求書】：
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