[實用新型]一種卷對卷磁控濺射真空鍍膜裝置有效
| 申請號： | 201620262209.X | 申請日： | 2016-03-31 |
| 公開（公告）號： | CN205688003U | 公開（公告）日： | 2016-11-16 |
| 發明（設計）人： | 向勇;傅紹英;胡楊;楊小軍 | 申請（專利權）人： | 成都西沃克真空科技有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 北京眾達德權知識產權代理有限公司 11570 | 代理人： | 詹守琴 |
| 地址： | 610200 四川省成都市雙流*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 磁控濺射 真空鍍膜 裝置 | ||
【說明書】：
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