[實用新型]適于接觸式光刻機的分區域曝光裝置有效
| 申請號： | 201620238897.6 | 申請日： | 2016-03-25 |
| 公開（公告）號： | CN205450560U | 公開（公告）日： | 2016-08-10 |
| 發明（設計）人： | 馬林賢 | 申請（專利權）人： | 中國科學院上海微系統與信息技術研究所 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海光華專利事務所 31219 | 代理人： | 余明偉 |
| 地址： | 200050 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 適于 接觸 光刻 區域 曝光 裝置 | ||
【說明書】：
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