[實用新型]溫度可控的高溫輻照靶室有效
| 申請號： | 201620212874.8 | 申請日： | 2016-03-18 |
| 公開（公告）號： | CN205789142U | 公開（公告）日： | 2016-12-07 |
| 發明（設計）人： | 夏海鴻;袁大慶;李懷林;燕鵬;孔淑妍;范平;張喬利;溫阿利;馬海亮;左翼;朱升云 | 申請（專利權）人： | 國核（北京）科學技術研究院有限公司;中國原子能科學研究院 |
| 主分類號： | G21K5/00 | 分類號： | G21K5/00;G01N1/44 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司11021 | 代理人： | 文潔 |
| 地址： | 102209 北京市昌平區北*** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 溫度 可控 高溫 輻照 | ||
【說明書】：
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