[實用新型]一種噴涂裝置

有效

• 申請號: 201620179341.4
• 申請日: 2016-03-09
• 公開（公告）號: CN205380015U
• 公開（公告）日: 2016-07-13
• 發明（設計）人: 何忠翰
• 申請（專利權）人: 佳馬機械涂覆科技（蘇州）有限公司
• 主分類號: B05B15/08
• 分類號: B05B15/08;B05B13/00
• 代理公司: 北京眾合誠成知識產權代理有限公司 11246
• 代理人: 連平

技術領域：

本實用新型涉及面板生產領域，具體講是面板生產領域的一種噴涂裝置。

背景技術：

在液晶面板的制作過程中，在基板上制作薄膜是必不可少的一段工藝，薄膜是指在基板上的多層噴膜層的整體。該工藝主要是依次使用噴涂裝置在基板表面均勻的噴灑液態的薄膜材料，再通過其自身的擴散，形成噴膜層。具體的是，噴涂裝置的噴頭為長桿狀，在噴頭上沿長桿的長度方向設有多個噴嘴，噴涂過程中，使噴頭沿與其本身的長度方向相垂直的方向直線移動，對基板噴涂薄膜材料，該噴涂軌跡即為噴膜線。面板上的噴膜厚度較薄，噴嘴的孔徑較小，容易造成噴嘴不穩定，如出現噴嘴堵塞、噴嘴內帶有氣泡和噴嘴內壓力過大或者過小等問題。當某個或某幾個噴嘴出現問題里，該噴嘴噴涂的區域在形成噴膜層后呈與噴膜線一致的線性不良。現有的噴涂裝置的缺少角度調節裝置，多層噴膜層的噴膜線之間是相平行的。在檢測線性不良產生的噴膜層時，由于各噴膜層的噴膜線是相平行的，很難確定是哪個噴膜層出現線性不良，無法確定出問題的工段和噴膜裝置的位置。

現有技術通過提供一種面板生產的噴涂裝置，該噴涂裝置能夠旋轉噴涂角度，多層噴膜層之間具有夾角，方便檢測線性不良發生的工段。但是此裝置無法調節噴嘴與基板的距離，當檢測出不良后，如果需要調整噴涂距離，那么就會無能為力。

針對上述技術問題有必要提供一種新的技術方案。

實用新型內容：

本實用新型的目的是針對現有技術不足，提供一種能調節噴嘴和基板之間距離的噴涂裝置。

為達到上述目的，本實用新型提供了一種噴涂裝置，包括機架、基板托架和噴嘴托架；所述機架用于支撐基板托架；所述基板托架用于承托待加工基板；所述基板托架側上方水平設置有噴嘴托架；所述噴嘴托架固連在兩側平行設置的滑軌機構上；所述滑軌機構包括滑塊和滑軌；所述滑軌下端面固定在轉動盤上；所述轉動盤固定在立柱上；所述機架包括圓形底板和上環形柱體；所述機架的上環形柱體固定在圓形底板上端面；所述上環形柱體開設有環形槽；所述基板托架包括矩形托板和下環形柱體；所述基板托架的下環形柱體固定在矩形托板的下端面；所述基板托架的下環形柱體插設在機架上環形柱體的環形槽內；所述機架的圓形底板固定有氣缸；所述氣缸的活塞桿與基板托架的矩形托板下端面連接板相連；

所述噴嘴托架為開設有空腔的長方形；噴嘴垂直插設在噴嘴托架的下側壁內；噴嘴成型有錐面；所述噴嘴托架的下側壁上固定有右導向塊和導向條；所述導向條上插設有左導向塊；所述右導向塊左端面上邊角成型有倒角；所述左導向塊上端面兩邊角成型有倒角；所述噴嘴托架豎直螺接有調節螺栓；調節螺栓成型有錐面；所述調節螺栓通過錐面抵靠在左導向塊上；噴嘴通過錐面抵靠在左導向塊和右導向塊上；所述左導塊右端面成型有導向圓柱；所述右導軌左端面成型有導向圓柱；所述左導塊和右導軌之間設置有第一壓簧；第一壓簧一端插設在左導向塊的導向圓柱上并抵靠在左導向塊的右端面上、另一端插設在右導向塊的導向圓柱上并抵靠在右導向塊的左端面上。

作為上述技術方案的優選，所述噴嘴上端面均勻成型有若干導向圓柱；所述噴嘴托架空腔上端面均勻成型有若干導向圓柱；所述噴嘴上端面和噴嘴托架空腔上端面之間設置有若干第二壓簧；所述第二壓簧一端插設在噴嘴上端面的導向圓柱上并抵靠在噴嘴上端面、另一端插設在噴嘴托架空腔上端面的導向圓柱上并抵靠在噴嘴托架空腔上端面。

作為上述技術方案的優選，第二壓簧設置有三個。

作為上述技術方案的優選，調節螺栓上端面成型有十字槽。

作為上述技術方案的優選，調節螺栓的數量與噴嘴數量相同。

本實用新型的有益效果在于：能調節噴嘴和基板之間的距離，從而優化基板的噴涂質量，減低基板的生產不良率。

附圖說明：

圖1為本實用新型的結構示意視圖；

圖2為本實用新型噴嘴托架的剖面示意圖；

圖3為本實用新型的俯視示意圖；

圖4為本實用新型的噴嘴托架旋轉5°的俯視示意圖；

圖中，10、立柱；20、轉動盤；30、滑軌機構；31、滑軌；32、滑塊；40、噴嘴托架；401、調節螺栓；402、導向條；403、左導向塊；404、右導向塊；405、第二壓簧；406、第一壓簧；50、機架；51、基板托架；511、連接板；60、氣缸；70、基板。

具體實施方式：

實施例：下面結合附圖對本實用新型做以下詳細敘述。為敘述方便，下述的“上”、“下”、“左”、“右”與附圖本身的上、下、左、右方向一致。