[實用新型]一種真空蒸發源裝置及真空蒸鍍設備

有效

• 申請號: 201620128445.2
• 申請日: 2016-02-18
• 公開（公告）號: CN205329148U
• 公開（公告）日: 2016-06-22
• 發明（設計）人: 黃磊;彭銳;許凱;葉志杰;王欣欣;賈文斌;高昕偉;魏鈺;竇義坤
• 申請（專利權）人: 合肥鑫晟光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種真空蒸發源裝置，其特征在于，包括蒸鍍坩堝、開口可變 式蓋板、控制結構；

所述蒸鍍坩堝用于放置待蒸鍍的源材料；

所述開口可變式蓋板設置于所述蒸鍍坩堝的開口處，用于調節所 述蒸鍍坩堝的開口的大小；

所述控制結構與所述開口可變式蓋板相連，用于控制所述開口可 變式蓋板的開口大小；

其中，所述開口可變式蓋板的材料為耐高溫材料。

2.根據權利要求1所述的真空蒸發源裝置，其特征在于，所述蒸 鍍坩堝的開口與所述開口可變式蓋板的開口形狀一致。

3.根據權利要求1所述的真空蒸發源裝置，其特征在于，所述開 口可變式蓋板采用可變光闌原理制成。

4.根據權利要求3所述的真空蒸發源裝置，其特征在于，所述開 口可變式蓋板包括多個葉片、活動環及固定環；

每個所述葉片的兩端均設置有活動銷釘和固定銷釘，所述活動銷 釘和所述固定銷釘分設在所述葉片的相對面；

每個所述葉片的一端通過所述固定銷釘固定在所述固定環上，另 一端通過所述活動銷固定在所述活動環上；

其中，所述活動環可相對所述固定環轉動。

5.根據權利要求1所述的真空蒸發源裝置，其特征在于，所述控 制結構包括開口控制桿；

所述開口控制桿與所述開口可變式蓋板相連，用于控制所述開口 可變式蓋板的開口大小。

6.根據權利要求5所述的真空蒸發源裝置，其特征在于，所述控 制結構還包括支撐柱，所述支撐柱上設有通孔，所述開口控制桿穿過 所述通孔；

所述支撐柱用于支撐所述開口控制桿。

7.根據權利要求1所述的真空蒸發源裝置，其特征在于，所述蒸 鍍坩堝為線源蒸鍍坩堝或面源蒸鍍坩堝。

8.一種真空蒸鍍設備，包括真空蒸鍍腔室，其特征在于，還包括 設置在所述真空蒸鍍腔室中的權利要求1-7任一項所述的真空蒸發源 裝置。

9.根據權利要求8所述的真空蒸鍍設備，其特征在于，所述真空 蒸鍍設備還包括驅動裝置和控制裝置；

所述驅動裝置與所述真空蒸發源裝置中的開口控制桿相連，用于 驅動所述開口控制桿轉動，以控制所述開口可變式蓋板的開口大小；

所述控制裝置與所述驅動裝置相連，用于控制所述驅動裝置驅動 開口控制桿轉動。