[實用新型]利用熔絲引弧的等離子體熱解裝置有效
| 申請號: | 201620122437.7 | 申請日: | 2016-02-16 |
| 公開(公告)號: | CN205336641U | 公開(公告)日: | 2016-06-22 |
| 發明(設計)人: | 周開根 | 申請(專利權)人: | 衢州迪升工業設計有限公司 |
| 主分類號: | H05H1/48 | 分類號: | H05H1/48 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 324000 浙江省衢州市*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 利用 熔絲引弧 等離子體 裝置 | ||
1.一種利用熔絲引弧的等離子體熱解裝置,包括第一電極(3)、第二電極(5)、第三電極 (6)和電極架(9),其特征是第一電極(3)為圓盤體結構,圓盤體的中心有貫通的圓孔,其貫 通圓孔的右端有擴口的凹槽(3-1);支持架(2)的左側部分為圓槽體結構,支持架(2)的右側 部分為圓筒體結構,左側部分的圓槽體內空間與右側部分的圓筒體內空間相通,在支持架 (2)的左端壁體中心有通孔,在支持架(2)左側的圓槽口有安裝臺階(2-1),第一電極(3)安 裝在安裝臺階(2-1)上;支持架(2)的圓筒體右端連接到第三電極(6)上,第三電極(6)通過 絕緣連接件(8)連接到電極架(9)上,第二電極(5)安裝在電極架(9)上,第三電極(6)為圓環 體結構,第二電極(5)為圓棒體結構,第二電極(5)的圓棒體從第三電極(6)的圓環體內空間 中穿過,第二電極(5)的頭端伸入到支持架(2)的圓筒體內空間中,第二電極(5)的棒體與第 三電極(6)的圓環壁體之間的空間構成電離通道(Ⅹ),支持架(2)的圓筒內空間構成等離子 體發生室(Ⅲ),等離子體發生室(Ⅲ)有產物出口(Ⅱ)接出;在第一電極(3)圓盤體中心的圓 孔與支持架(2)左端壁體中心的通孔之間有穿心牽緊桿(1)進行緊密連接,穿心牽緊桿(1) 的內空間構成引弧熔絲的過孔。
2.根據權利要求1所述的一種利用熔絲引弧的等離子體熱解裝置,其特征是穿心牽緊 桿(1)的空心入口構成熔絲安裝口(1-4),熔絲安裝口(1-4)的壁體上有緊固螺孔(1-5),穿 心牽緊桿(1)的內空間與第一電極(3)的凹槽(3-1)進行貫通相連。
3.根據權利要求1所述的一種利用熔絲引弧的等離子體熱解裝置,其特征是支持架(2) 左側部分的圓槽體內空間構成環形冷卻室(Ⅻ),環形冷卻室(Ⅻ)有冷卻劑進口(Ⅺ)接入和 冷卻劑出口(Ⅰ)接出;在第一電極(3)的左側有冷卻環槽(3-2),冷卻環槽(3-2)與環形冷卻 室(Ⅻ)相通。
4.根據權利要求1所述的一種利用熔絲引弧的等離子體熱解裝置,其特征是產物出口 (Ⅱ)設置在支持架(2)的壁體上。
5.根據權利要求1所述的一種利用熔絲引弧的等離子體熱解裝置,其特征是在支持架 (2)左端壁體中心的通孔中有密封槽(2-2)。
6.根據權利要求1所述的一種利用熔絲引弧的等離子體熱解裝置,其特征是絕緣連接 件(8)為圓環體結構,絕緣連接件(8)的圓環內空間構成環形氣室(Ⅵ),在絕緣連接件(8)的 壁體上有介質輸入接口(Ⅴ)接入到環形氣室(Ⅵ),環形氣室(Ⅵ)通過電離通道(Ⅹ)連通到 支持架(2)內的等離子體發生室(Ⅲ)。
7.根據權利要求1所述的一種利用熔絲引弧的等離子體熱解裝置,其特征是電極架(9) 為中空回轉體結構,在電極架(9)上有安裝螺口(9-3)和連接螺口(9-2),安裝螺口(9-3)用 于安裝第二電極(5),連接螺口(9-2)連接到絕緣連接件(8)上,在中空回轉體內有導流管 (9-1),第二電極(5)的圓棒體結構內有冷卻腔(Ⅳ),導流管(9-1)伸入到冷卻腔(Ⅳ)中,導 流管(9-1)的外圍空間構成冷卻劑回流通道(Ⅷ),導流管(9-1)有冷卻液進口(Ⅸ)接入,冷 卻劑回流通道(Ⅷ)有冷卻液出口(Ⅶ)接出。
8.根據權利要求1所述的一種利用熔絲引弧的等離子體熱解裝置,其特征是在電極架 (9)的壁體上有第一電氣接口(10)接入,第一電氣接口(10)連通到第二電極(5);在第三電 極(6)的壁體上有第二電氣接口(11)接入;在穿心牽緊桿(1)的左端有第三電氣接口(14)接 入,第三電氣接口(14)連通到第一電極(3)。
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