[實用新型]一種熔蝕式引弧的等離子體裝置

有效

• 申請號: 201620122434.3
• 申請日: 2016-02-16
• 公開（公告）號: CN205336635U
• 公開（公告）日: 2016-06-22
• 發明（設計）人: 周開根
• 申請（專利權）人: 衢州迪升工業設計有限公司
• 主分類號: H05H1/34
• 分類號: H05H1/34
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種熔蝕式引弧的等離子體裝置，包括前端頭（1）、第一電極（2）、第二電極（6）、第三 電極（7）和支持件（8），其特征是前端頭（1）和第一電極（2）為環形體結構，第一電極（2）以嵌 入方式安裝在前端頭（1）之內，第一電極（2）的環內空間構成產物出口（Ⅺ）；前端頭（1）通過 圍護體（5）連接到第二電極（6）的前端，圍護體（5）的內空間構成等離子體發生室（Ⅷ）；第二 電極（6）為環形體結構，第三電極（7）為圓盤體結構，第三電極（7）的圓盤體中心有貫通的圓 孔，在第三電極（7）貫通的圓孔前端有凹槽（7-1），第三電極（7）置于第二電極（6）的環形體 之內，第二電極（6）和第三電極（7）安裝在支持件（8）的前端，第二電極（6）的內壁與第三電 極（7）的外壁之間空間構成電離氣槽（Ⅱ）；支持件（8）的中心有軸向通孔，用穿心牽緊桿（9） 和緊固螺母（10）把第三電極（7）與支持件（8）進行緊密連接。

2.根據權利要求1所述的一種熔蝕式引弧的等離子體裝置，其特征是第一電極（2）外壁 與前端頭（1）內壁之間的空間構成冷卻水套（Ⅹ），冷卻水套（Ⅹ）有冷卻劑進口（Ⅸ）接入和 冷卻劑出口（Ⅰ）接出。

3.根據權利要求1所述的一種熔蝕式引弧的等離子體裝置，其特征是第二電極（6）的環 形體中有環形氣室（Ⅶ），環形氣室（Ⅶ）有介質輸入接口（Ⅲ）接入，環形氣室（Ⅶ）連通到電 離氣槽（Ⅱ）。

4.根據權利要求1所述的一種熔蝕式引弧的等離子體裝置，其特征是支持件（8）為前端 開口的槽體結構，支持件（8）的槽體內空間構成環形冷卻腔（Ⅵ），在第三電極（7）的內側有 冷卻環槽（7-2），冷卻環槽（7-2）與環形冷卻腔（Ⅵ）相通，環形冷卻腔（Ⅵ）有冷卻液進口 （Ⅴ）接入和冷卻液出口（Ⅳ）接出。

5.根據權利要求1所述的一種熔蝕式引弧的等離子體裝置，其特征是在支持件（8）中心 的軸向通孔中有密封槽（8-1）。

6.根據權利要求1所述的一種熔蝕式引弧的等離子體裝置，其特征是穿心牽緊桿（9）為 空心結構，穿心牽緊桿（9）的內空間構成熔絲過孔（9-5），熔絲過孔（9-5）的后端構成熔絲安 裝口（9-3），熔絲過孔（9-5）與第三電極（7）的凹槽（7-1）進行貫通相連。