[實用新型]一種等離子體輔助感應加熱法制備石墨烯的裝置有效
| 申請號: | 201620094752.3 | 申請日: | 2016-02-01 |
| 公開(公告)號: | CN205368492U | 公開(公告)日: | 2016-07-06 |
| 發明(設計)人: | 渠洪波 | 申請(專利權)人: | 沈陽科友真空技術有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/26 | 分類號: | C23C16/26;C23C16/44 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 110000 遼寧*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 等離子體 輔助 感應 加熱 法制 石墨 裝置 | ||
1.一種等離子體輔助感應加熱法制備石墨烯的裝置,其特征在于,包括機架、微波源、耦合腔、真空室、感應線圈和工件架,所述微波源位于所述機架的上方,所述耦合腔設置在所述微波源的左側,所述耦合腔的底端設置有所述真空室,所述真空室設置在所述機架上,所述真空室內設置有工件架,所述工件架的周圍纏繞有所述感應線圈。
2.如權利要求1所述的等離子體輔助感應加熱法制備石墨烯的裝置,其特征在于,還包括感應線圈電源和偏壓電源,所述感應線圈電源設置在所述真空室的下方,所述感應線圈與所述感應線圈電源連接,所述偏壓電源與所述工件架連接。
3.如權利要求2所述的等離子體輔助感應加熱法制備石墨烯的裝置,其特征在于,還包括抽氣裝置和抽氣管道,所述抽氣管道設置在所述真空室的下端,所述真空室通過所述抽氣管道與所述抽氣裝置連接。
4.如權利要求3所述的等離子體輔助感應加熱法制備石墨烯的裝置,其特征在于,還包括進氣口,所述進氣口設置在所述真空室的上端側面,所述真空室通過所述進氣口與外部的真空系統的機械泵連接。
5.如權利要求4所述的等離子體輔助感應加熱法制備石墨烯的裝置,其特征在于,所述感應線圈電源和所述抽氣裝置均設置在所述機架內,所述感應線圈電源位于所述抽氣裝置的左側。
6.如權利要求5所述的等離子體輔助感應加熱法制備石墨烯的裝置,其特征在于,所述微波源與所述機架之間通過長度可調節的伸縮桿固定連接。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





