[實用新型]一種活性污泥生化池

有效

• 申請號: 201620088140.3
• 申請日: 2016-01-28
• 公開（公告）號: CN205367887U
• 公開（公告）日: 2016-07-06
• 發明（設計）人: 王旭;李星文;劉俊紅;周麗穎;李京蓮;袁琳
• 申請（專利權）人: 浦華環保股份有限公司;浦華控股有限公司
• 主分類號: C02F3/30
• 分類號: C02F3/30
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 郝瑞剛

技術領域

本實用新型涉及污泥處理技術領域，尤其涉及一種活性污泥生化池。

背景技術

活性污泥生化池一般采用AAO(Anaerobic-Anoxic-Oxic，即厭氧-缺氧-好氧法)技術，AAO是污水生化處理的主流技術，AAO的技術含義是：第一個A指生物厭氧段，第二個A指生物缺氧段，O指生化好氧段。其中厭氧段A主要起到使活性污泥中的釋磷菌在厭氧環境中充分釋磷，使之能夠在后續的好氧環境中吸收更多的磷，從而起到生物除磷的作用。缺氧段A則是使活性污泥中的反硝化菌在缺氧狀態下，能夠利用從后續好氧段回流來的硝酸鹽取代氧做為電子受體而參與生物降解反應，以此能夠將后續好氧段氧化而來的硝酸鹽總氮還原為不溶于水的氮氣，從而實現生物脫氮過程。好氧段O的主要功能是對活性污泥充分供氧，使活性污泥中的各類菌群都能夠得到充足的氧氣，以充分降解污水中的有機污染物，同時將各類有機無機氮氧化為硝酸鹽氮，使之在回流到缺氧段A時能夠被反硝化菌還原為氮氣，另外在厭氧段A中已充分釋放磷酸鹽的聚磷菌，在隨活性污泥進入好氧段O后，又可以將水中更多的磷酸鹽吸收進來，從而使生化池出水中的磷大幅度減少，實現生物除磷的目的?，F在的AAO技術在應用中也產生了多種布置形式，各段進水、回流污泥的前后次序都可以根據工藝需要靈活改變，但不管如何改變，AAO三段功能池體，是每種工藝中必不可少的組成部分。

目前AAO生物反應池的布置都是平面布置的，即三段都位于同一平面上，厭氧段A和缺氧段A通常占整個池容的1/3到1/2，三段的池深主要由好氧段的深度決定，因為好氧段需要由鼓風機通過曝氣頭向池中供氧，而鼓風機的供氧深度受水壓影響大，一般鼓風機供氧深度限制在6m以下，而其他種類的供氧深度，一般都低于鼓風供氧。所以一般污水處理設施中的生化池水深不超過6m，由此帶來的主要問題是生化池整體占地面積大，在土地資源比較緊張的地區建設這種工藝的污水廠，土地問題對工藝的影響較大。

實用新型內容

(一)要解決的技術問題

本實用新型要解決的技術問題是解決現有的活性污泥處理池占地面積較大的問題。

(二)技術方案

為了解決上述技術問題，本實用新型提供了一種活性污泥生化池，包括池體，所述池體內設有水平設置的第一隔板和第二隔板，所述第一隔板設于第二隔板的下方，將所述池體分隔為自下而上的厭氧區、缺氧區和好氧區；所述厭氧區的底部設有污水進口和污泥進口，所述厭氧區內設有第一攪拌裝置，所述第一隔板上設有第一過流通道，且所述第一過流通道設于所述第一攪拌裝置正上方，用于連通厭氧區和缺氧區并便于對第一攪拌裝置檢修；所述缺氧區內設有第二攪拌裝置，所述第二隔板上設有第二過流通道，且所述第二過流通道設于所述第二攪拌裝置的正上方，用于連通缺氧區和好氧區并便于人員對第二攪拌裝置檢修；所述好氧區內設有曝氣裝置，所述好氧區的后端面上設有出水口。

其中，所述厭氧區內設有第一隔墻，所述第一隔墻將所述厭氧區分隔為多個獨立的第一反應區，每個所述第一反應區的底部均設有污水進口和污泥進口，且每個所述第一反應區內均設有第一攪拌裝置；所述缺氧區內設有與所述第一隔墻結構相同的第二隔墻，所述第二隔墻與所述第一隔墻對應設置，將所述缺氧區分隔為多個獨立的第二反應區，每個所述第二反應區內均設有第二攪拌裝置。

其中，所述第一隔墻的形狀為柵格形，所述第一反應區為矩形，且所述第一反應區的兩個對角分別設有第一攪拌裝置。

其中，所述第二反應區的兩個對角分別設有第二攪拌裝置，所述第二攪拌裝置和第一攪拌裝置交錯設置。

其中，所述第一隔墻為平板形，且所述第一隔墻的數量若干，當所述第一隔墻的數量為多個時，多個所述第一隔墻平行且間隔的嵌于所述厭氧區；每個所述第一反應區內設有兩塊第一弧形支撐板和一塊第一平板形支撐板，兩塊所述第一弧形支撐板分別設于所述第一反應區的前后兩端，所述第一平板形支撐板設于兩塊所述第一弧形支撐板之間，且與兩塊所述第一弧形支撐板存在間隙，用于支撐所述第一隔板并對混合液進行導流；每個第一反應區內均設有多個第一攪拌裝置。

其中，每個第二反應區內設有兩塊第二弧形支撐板和一塊第二平板形支撐板，兩塊所述第二弧形支撐板設于分別設于第二反應區的前后兩端，所述第二平板形支撐板設于所述兩塊所述地第二弧形支撐板之間，且與兩塊所述第二弧形支撐板存在間隙，用于支撐所述第二隔板并對混合液進行導流；每個第二反應區內均設有多個第二攪拌裝置，所述第二攪拌裝置與所述第一攪拌裝置交錯設置。