[實用新型]一種用于蒸發結晶系統的氣液分離器

有效

• 申請號: 201620087928.2
• 申請日: 2016-01-29
• 公開（公告）號: CN205379695U
• 公開（公告）日: 2016-07-13
• 發明（設計）人: 李卓坪;曹惠忠;楊魯偉;張振濤
• 申請（專利權）人: 南京科盛環保科技有限公司
• 主分類號: B01D19/00
• 分類號: B01D19/00;B01D46/10
• 代理公司: 廣州市紅荔專利代理有限公司 44214
• 代理人: 付春霞

技術領域

本實用新型涉及氣液分離器領域，特別是涉及一種用于蒸發結晶系統的氣液分離器。

背景技術

氣液分離器是利用氣體與液體的密度不同，液體在與氣體一起流動時，液體會受到重力的作用，產生一個向下的速度，而氣體仍然朝著原來的方向流動，也就是說液體與氣體在重力場中有分離的傾向，向下的液體附著在壁面上匯聚在一起通過排放管排出，從而將氣體和液體進行分離的設備。

隨著地球資源的枯竭，需要對工業廢水等廢液進行回收再利用，而蒸發結晶是目前普遍采用的一種回收手段，氣液分離器在蒸發結晶系統中是一個非常重要的組成部分，其氣液分離的效率將直接影響廢水的回收率。然而現有的氣液分離器，在氣液分離過程中，存在著一定的熱量流失，不利于提高其熱回收率。

實用新型內容

本實用新型主要解決的技術問題是提供一種用于蒸發結晶系統的氣液分離器，能夠提高設備的熱回收率與二次蒸汽的純凈度。

為解決上述技術問題，本實用新型采用的一個技術方案是：提供一種用于蒸發結晶系統的氣液分離器，包括：殼體、支腿、上循環口、下循環口和二次蒸汽出口，所述支腿設置于殼體的下方用于固定殼體，所述上循環口設置于殼體的下部側面，所述上循環口切向進入殼體，所述下循環口設置于殼體的底部，所述二次蒸汽出口設置于殼體的頂部，在所述殼體的上部設置有一層過濾網格，在所述殼體的下部、上循環口的下方設置有熱回收管，所述熱回收管螺旋排列于殼體的下部，所述熱回收管具有一進水口和一出水口，所述進水口的高度高于出水口。

優選的，在所述殼體的頂部、二次蒸汽出口相接觸部分設置有一擋板。

優選的，所述殼體的側壁開設有至少一個視鏡。

優選的，所述殼體的頂部開設有一沖洗口。

優選的，所述殼體的頂部設置有一壓力表接口

優選的，所述殼體的下部側壁設置有一溫度計接口。

優選的，所述殼體的底部靠近下循環口出開設有一取樣口。

本實用新型的有益效果是：本實用新型在殼體的底部設置有熱回收管，可以對氣液分離后的液體部分的熱量進行回收再利用，節約了資源；另外，在殼體的上部設置有一層過濾網格，能夠將氣液中的泡沫進行過濾，提高了二次蒸汽的純凈度。

附圖說明

圖1是本實用新型一種用于蒸發結晶系統的氣液分離器一較佳實施例的結構示意圖；

附圖中各部件的標記如下：1、殼體，2、支腿，3、上循環口，4、二次蒸汽出口，5、下循環口，6、過濾網格，7、熱回收管，71、進水口，72、出水口，8、擋板，9、視鏡，10、清洗口，11、壓力表接口，12、溫度計接口，13、取樣口。

具體實施方式

下面結合附圖對本實用新型的較佳實施例進行詳細闡述，以使本實用新型的優點和特征能更易于被本領域技術人員理解，從而對本實用新型的保護范圍做出更為清楚明確的界定。

請參閱圖1，本實用新型實施例包括：

一種用于蒸發結晶系統的氣液分離器，包括：殼體1、支腿2、上循環口3、下循環口5和二次蒸汽出口4，所述支腿2設置于殼體1的下方用于固定殼體1，所述上循環口3設置于殼體1的下部側面，所述上循環口3切向進入殼體1，所述下循環口5設置于殼體1的底部，所述二次蒸汽出口4設置于殼體1的頂部，在所述殼體1的上部設置有一層過濾網格6，在所述殼體1的下部、上循環口3的下方設置有熱回收管7，所述熱回收管7螺旋排列于殼體1的下部，所述熱回收管7具有一進水口71和一出水口72，所述進水口71的高度高于出水口72。

本實用新型的工作原理為：原液從上循環口3切向進入殼體1，由于受到離心力與重力的作用，原液中的液體從底部的下循環口5排出，而原液中的蒸汽由于密度較小，從上部的二次蒸汽出口4排出，為了消除蒸汽中的泡沫或其他雜質，在殼體1的上部設置有一層過濾網格6；由于分離出的液體中存在著一部分的熱量，在殼體1的底部設置了熱回收管7，且這些熱回收管7呈螺旋狀排列，提高了熱交換率，熱回收管7的進水口71高于出水口72高度。

為了便于監控殼體1內的狀況，在殼體1的側壁處開設有兩個視鏡9。殼體1內頂部的擋板8主要用于減小蒸汽對殼頂的沖擊力。為了方便對殼體1內進行定期清洗，在殼體1的頂部開設了清洗口10。壓力表接口11和溫度計接口12分別用于接入壓力表和溫度計，便于隨時監控殼體1內部的溫度和壓力。

以上所述僅為本實用新型的實施例，并非因此限制本實用新型的專利范圍，凡是利用本實用新型說明書及附圖內容所作的等效結構或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關的技術領域，均同理包括在本實用新型的專利保護范圍內。