[實用新型]氣流控制裝置

有效

• 申請號: 201620085717.5
• 申請日: 2016-01-28
• 公開（公告）號: CN205319132U
• 公開（公告）日: 2016-06-15
• 發明（設計）人: 朱琨;鐘立華;王冰;陳亮;王石
• 申請（專利權）人: 昆山國顯光電有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67
• 代理公司: 北京匯思誠業知識產權代理有限公司 11444
• 代理人: 王剛;龔敏

技術領域

本實用新型涉及半導體制造技術領域，尤其涉及一種氣流控制裝置。

背景技術

六甲基二硅胺烷(HexMethyDiSilylamine，簡稱HMDS)是半導體光刻工 藝中一種常用的耗材。一般在光刻工藝中，在基板上涂布光刻膠之前，先在 基板上均勻涂布一層氣態形式的HMDS，用以增大光刻膠與基板表面之間的 粘合度。

相關技術中，HMDS直接從氣流控制裝置的管路出口垂直沉積到出口的 正下方的基板表面，然后通過表面擴散方式，擴散到基板表面的其他位置， 進而完成HMDS的涂布。因此，位于管路出口正前方的光刻膠區域被稱之為 沉積區域，而通過表面擴散方式所形成的光刻膠區域被稱之為擴散區域。

但是，相關技術中，HMDS垂直沉積到基板表面后，由于HMDS氣體被 加壓后從氣流控制裝置的管路出口直接附著在基板上，HMDS氣體在壓力和 重力的作用下，會與基板之間形成較大的接觸力，從而很容易附著在基板上， 而HMDS氣體向其它區域擴散后，這些擴散后的HMDS氣體僅在重力的作 用下堆積在基板表面，因此與基板的接觸力較小，從而不易附著在基板上。 這就導致在涂布光刻膠后，處于擴散區域內的光刻膠與基板的粘合度較低， 使光刻膠易從基板上剝離。

實用新型內容

本實用新型提供一種氣流控制裝置，以實現減少整個基板的表面上 HMDS氣體的擴散區，使HMDS氣體噴向基板的表面時，與基板的表面有足 夠的接觸力，從而很容易附著在基板上，進而實現了在該基板涂布光刻膠時， 增強光刻膠與基板的粘合度，使光刻膠不易從基板上剝離。

本實用新型提供一種氣流控制裝置，包括氣體輸送構件和噴頭；所述噴 頭包括腔體和多個噴嘴；

所述腔體上設置有進口端，所述氣體輸送構件上設置有出口端，所述進 口端與所述出口端連通，所述噴嘴設置在所述腔體的外殼上遠離所述進口端 的一側，且均與所述腔體相通，每個所述噴嘴與所述出口端的軸心線均呈 0-90°的夾角設置，且所有所述噴嘴將氣體噴射在基板平面的面積大于所述出 口端在所述平面的投影面積。

進一步可選地，上述所述的氣流控制裝置中，多個所述噴嘴圍繞所述軸 心線呈多層環形分布。

進一步可選地，上述所述的氣流控制裝置中，每層所述噴嘴與所述軸心 線之間的夾角均相等。

進一步可選地，上述所述的氣流控制裝置中，每層所述噴嘴與所述軸心 線之間的夾角由內至外依次增大。

進一步可選地，上述所述的氣流控制裝置中，所述腔體的外殼上遠離所 述進口端的一側呈弧面，且所述軸心線穿過所述弧面的中心。

進一步可選地，上述所述的氣流控制裝置中，所述噴頭沿所述軸心線的 方向的截面呈扇形形狀。

進一步可選地，上述所述的氣流控制裝置中，所述噴頭還包括擋片和支 撐桿，所述支撐桿的一端與所述擋片連接；所述支撐桿的另一端固定設置；

所述擋片設置在所述腔體內部，當所述擋片與所述出口端投影于同一基 板平面時，所述擋片的投影區域位于所述出口端的投影區域的中部。

進一步可選地，上述所述的氣流控制裝置中，所述氣流控制裝置還包括 調節構件；所述支撐桿遠離所述擋片的一端設有螺紋；所述調節構件包括與 所述支撐桿螺紋連接的螺母和開孔；

所述氣體輸送構件包括蓋板和氣體輸送通道，所述氣體輸送通道設置在 所述蓋板內部，所述出口端設置在所述蓋板的底部，所述開孔設置在所述蓋 板背離所述出口端的一側，且與所述軸心線共軸設置；

所述支撐桿遠離所述擋片的一端由所述氣體輸送通道穿過所述開孔，并 與所述螺母螺紋配合。

進一步可選地，上述所述的氣流控制裝置中，所述調節構件還包括密封 墊片，所述密封墊片套設在所述支撐桿上，且位于所述螺母與所述蓋板的外 壁之間。

進一步可選地，上述所述的氣流控制裝置中，所述噴頭與所述蓋板分開 設置或者為一體化結構。