[實用新型]一種工作波段為4100-5200nm的中紅外帶通濾光片有效
| 申請號： | 201620082952.7 | 申請日： | 2016-01-28 |
| 公開（公告）號： | CN205374790U | 公開（公告）日： | 2016-07-06 |
| 發明（設計）人： | 周東平 | 申請（專利權）人： | 蘇州晶鼎鑫光電科技有限公司 |
| 主分類號： | G02B5/20 | 分類號： | G02B5/20 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 215000 江蘇省蘇州市工業園區婁*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 工作 波段 4100 5200 nm 外帶 濾光 | ||
【權利要求書】：
1.一種工作波段為4100-5200nm的中紅外帶通濾光片，其特征在于包括正面膜系、基片和背面膜系，所述正面膜系由一氧化硅層和鍺膜層交替疊加組成，所述一氧化硅層和鍺膜層共24層；所述背面膜系由一氧化硅層和鍺膜層交替疊加組成，所述一氧化硅層和鍺膜層共28層。
2.根據權利要求1所述工作波段為4100-5200nm的中紅外帶通濾光片，其特征在于所述基片為鍺基片，所述基片厚度為0.3mm。
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