[實用新型]一種工作波段為3900-5500nm的中紅外帶通濾光片

有效

• 申請號: 201620081799.6
• 申請日: 2016-01-28
• 公開（公告）號: CN205374789U
• 公開（公告）日: 2016-07-06
• 發明（設計）人: 周東平
• 申請（專利權）人: 蘇州晶鼎鑫光電科技有限公司
• 主分類號: G02B5/20
• 分類號: G02B5/20
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型涉及一種帶通濾光片，特別涉及一種工作波段為3900-5500nm的中紅外帶通濾光片。

背景技術

帶通濾光片是一種對某一波段具有高的透射率，而對其兩端的波段高度截止的濾光片。中紅外帶通濾光片是在中紅外波長范圍內，在中心波長有較高的透過率，而在其余波段截止。其主要應用在紅外光譜探測系統，在航天領域有非常重要的應用。隨著空間紅外技術的發展，對紅外帶通濾光片的波形要求也越來越高，需要能夠有效濾除背景雜散信號，提高探測系統的信噪比。另外，除了對濾光片光學特性的高要求，在空間技術領域對紅外濾光片膜層可靠性也有極高的要求，目前可供選擇的紅外濾光片膜層材料品種很少，在制備時仍有很大的難度。

實用新型內容

本實用新型為克服現有技術的不足，提供一種工作波段為3900-5500nm的中紅外帶通濾光片。

為達到上述目的，本實用新型采用如下的技術方案：

一種工作波段為3900-5500nm的中紅外帶通濾光片，包括正面膜系、基片和背面膜系，所述正面膜系由硫化鋅層和鍺膜層交替疊加組成，所述硫化鋅層和鍺膜層共26層；所述背面膜系由硫化鋅層和鍺膜層交替疊加組成，所述硫化鋅層和鍺膜層共40層。

進一步的，所述基片為鍺基片，所述基片厚度為0.3mm。

相對現有技術，本實用新型的有益效果為：

本實用新型中的紅外帶通濾光片，在工作波段3.9-5.5微米內有高的透過率，而在其它波段高度截止。

附圖說明

圖1為本實用新型一實施例所述的一種工作波段為3900-5500nm的中紅外帶通濾光片的結構示意圖；

圖2為本實用新型一實施例所述的正面膜系透過率曲線圖；

圖3為本實用新型一實施例所述的反面膜系透過率曲線圖；

圖4為本實用新型一實施例所述的工作波段為3900-5500nm的中紅外帶通濾光片的透過率曲線透過率曲線圖。

附圖標記

1-正面膜系；2-基片；3-背面膜系。

具體實施方式

下面結合附圖對本實用新型做進一步的詳細說明，以令本領域技術人員參照說明書文字能夠據以實施。

參閱圖1，一種工作波段為3900-5500nm的中紅外帶通濾光片，包括正面膜系1、基片2和背面膜系3，所述正面膜系1由硫化鋅層和鍺膜層交替疊加組成，所述硫化鋅層和鍺膜層共26層；所述背面膜系3由硫化鋅層和鍺膜層交替疊加組成，所述硫化鋅層和鍺膜層共40層。

所述基片2為鍺基片，所述基片2厚度為0.3mm。所述鍺基片兩面拋光，兩個面上分別鍍制正面膜系和反面膜系。

作為本實用新型的一實施例，正面膜系1為5.5微米后截止膜系：λ＝6.2μm，H代表厚度為λ₀/4的鍺膜層，L代表厚度為λ₀/4的ZnS膜層。

其中正面膜系1的主要構成如下：

0.2H0.095L0.25H1.134L1.063H1.003L0.988H0.976L0.972H0.967L0.97H0.963L0.971H0.962L0.974H0.966L0.979H0.973L0.987H0.986L1.002H1.007L1.038H1.057L1.097H0.55L

正面膜系1透過率曲線如圖2所示。

反面膜系3為3.9微米前截止膜系，λ＝2.884μm，H代表厚度為λ₀/4的鍺膜層，L為代表厚度為λ₀/4的ZnS膜層。

反面膜系3的主要構成如下：

0.2H0.416L1.004H0.985L1.02H0.933L0.986H1.231L1.025H0.852L1.287H0.96L1.192H0.806L1.169H0.762L0.571H0.501L0.906H0.832L0.985H0.778L0.681H0.392L0.953H0.838L0.641H0.71L0.449H0.552L0.867H0.141L0.579H0.823L0.61H0.812L0.51H0.257L1.683H1.609L

反面膜系3透過率曲線如圖3所述。

當正面膜系和反面膜系鍍于基板上時，最終得到的中紅外帶通濾光片的透過率曲線如圖4所示。

該濾光片在可見光-3.5μm，絕對透過率≤1.0％；

在3.6-3.7μm范圍內，透過率≤5.0％；

在3.85-3.95μm和在5.5–5.6μm范圍內，透過率＝50％；