[實(shí)用新型]激光整形壓縮裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201620077883.0
• 申請(qǐng)日: 2016-01-27
• 公開（公告）號(hào): CN205374887U
• 公開（公告）日: 2016-07-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李成方;吳新民;母林;張可根
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 成都成億光電科技有限公司
• 主分類號(hào): G02B27/09
• 分類號(hào): G02B27/09;G03B21/20
• 代理公司: 成都宏順專利代理事務(wù)所(普通合伙) 51227
• 代理人: 周永宏

1.一種激光整形壓縮裝置，其特征在于：包括第一光源(3)、第二光源(4)，以及對(duì)向交錯(cuò)設(shè)置的第一反射裝置(1)和第二反射裝置(2)，第一光源(3)和第二光源(4)分別對(duì)第一反射裝置(1)和第二反射裝置(2)發(fā)出入射激光，再經(jīng)第一反射裝置(1)和第二反射裝置(2)沿同一方向反射出并分別形成第一光斑陣列和第二光斑陣列，所述第一光斑陣列和第二光斑陣列交錯(cuò)排列。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光整形壓縮裝置，其特征在于：所述第一反射裝置(1)和第二反射裝置(2)為結(jié)構(gòu)相同且對(duì)向交錯(cuò)穿插設(shè)置的反光鏡座，所述反光鏡座包括底座和若干個(gè)間隔并列設(shè)置于底座(6)上的反光板(7)，所述反光板(7)兩兩之間的底座(6)上設(shè)置有若干個(gè)通光孔(8)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的激光整形壓縮裝置，其特征在于：所述第一光源(3)和第二光源(4)為結(jié)構(gòu)相同的激光器陣列，分別設(shè)置于第二反射裝置(2)和第一反射裝置(1)外側(cè)，第一光源(3)、第二光源(4)發(fā)出的入射激光分別通過第二反射裝置(2)、第一反射裝置(1)上的通光孔(8)，再分別射至第一反射裝置(1)、第二反射裝置(2)的反光板(7)上。

4.根據(jù)權(quán)利要求2-3任一所述的激光整形壓縮裝置，其特征在于：所述反光板(7)為階梯狀，所述階梯狀平臺(tái)與平臺(tái)的斜面粘貼反光層(71)，所述反光層(71)與入射激光成45°夾角。

5.根據(jù)權(quán)利要求2-3任一所述的激光整形壓縮裝置，其特征在于：所述反光板(7)為楔形結(jié)構(gòu)，所述楔形斜面上粘貼若干個(gè)反光層(71)或一層反光面，所述反光層(71)或反光面與入射激光成45°夾角。

6.根據(jù)權(quán)利要求2-3任一所述的激光整形壓縮裝置，其特征在于：所述反光板(7)與底座(6)一體成型。