[實用新型]一種基板清洗裝置

有效

• 申請號: 201620064336.9
• 申請日: 2016-01-22
• 公開（公告）號: CN205324282U
• 公開（公告）日: 2016-06-22
• 發明（設計）人: 甄常刮
• 申請（專利權）人: 納晶科技股份有限公司
• 主分類號: B08B5/02
• 分類號: B08B5/02;B08B3/10;B08B13/00
• 代理公司: 北京科億知識產權代理事務所(普通合伙) 11350
• 代理人: 湯東鳳

技術領域

本實用新型涉及一種基板清洗裝置。

背景技術

目前，顯示基板、封裝蓋板或照明基板等基板的表面需要比較高的清潔度， 對這類產品的清洗的要求比較嚴格；對于帶有凹槽的基板，在旋轉甩干的時候， 凹槽內的水分很難脫離凹槽，需要長時間的高速旋轉才能被甩干，工作時間長， 效率低，成本較高；此外，在通過離心將基板甩干時，中心區域的離心力較小， 基板中心區域的水分很難被甩出，需要長時間的高速旋轉，工作效率較低，成 本較高。

實用新型內容

本實用新型提供了一種基板清洗裝置，旨在解決現有的清洗裝置在通過離 心將基板甩干時，基板中心區域由于離心力較小，水分很難被甩干，造成工作 效率低的問題。

為了解決以上技術問題，本實用新型通過以下技術方案實現：一種基板清 洗裝置，包括槽體、轉動裝置和噴氣裝置，轉動裝置轉接在槽體內，基板水平 安裝在轉動裝置上且在轉動裝置的帶動下在水平面內旋轉，噴氣裝置設置在槽 體內壁上且朝向基板的中心區域噴氣。

進一步，噴氣裝置由至少一根噴氣管構成。便于控制氣流的方向。

進一步，噴氣裝置的噴氣方向與基板的夾角在10°～70°。在這個角度內， 氣流可以更容易將水珠吹離中心區域。此外在這個角度內，使得噴氣方向與基 板存在傾斜角，再結合基板的高速旋轉，可以使氣流流經整個基板，可以將帶 有凹槽基板的凹槽內水分吹出，然后通過離心甩出，提高了工作效率。

進一步，所述轉動裝置包括旋轉電機和固定在旋轉電機轉軸上的安裝座， 基板安裝在安裝座上。

進一步，安裝座為一個轉盤，所述轉盤的上表面固定有多個限位柱，基板 卡接在限位柱之間；轉盤的上表面設有至少三個支撐塊，基板放置在支撐塊的 頂端。拆裝方便，工作效率高。

進一步，基板為方形，安裝座由一個固定在旋轉電機轉軸上的圓盤和均布 在圓盤周邊上的四個支板構成，每個支板上分別設有一個支撐塊和兩個用于卡 住基板角的限位柱。

進一步，所述支撐塊和限位柱的上端均具有彈性。有利于保護基板不受損 壞。

進一步，所述限位柱由一根剛性立柱和設置在剛性立柱上方的彈性套構成， 基板的角卡接在彈性套上。有利于保護基板，而且在彈性作用下，基板卡的更 牢固。

進一步，所述槽體的內壁上設有朝向基板的噴水管。可以提高清洗效果。

進一步，所述噴水管至少有兩個且朝向基板的上下兩個表面噴水。可以提 高清洗效果。

進一步，所述基板是顯示基板、封裝蓋板或照明基板。

與現有技術相比本實用新型的優點是：本實用新型可用于帶凹槽或表面光 滑的基板，1、本實用新型中設有轉動裝置，轉動裝置轉接在槽體內，槽體可以 防止水外泄，保持整潔。2、基板水平安裝在轉動裝置上且在轉動裝置的帶動下 在水平面內旋轉；一方面，在清洗時，通過轉動裝置緩慢轉動基板，擦拭基板 時更加均勻；另一方面，在高速旋轉時，可以將基板快速甩干。3、在高速旋轉 對基板進行甩干時，在基板中心區域的離心力較小，水珠很難被甩出，需要長 時間的高速旋轉才可將水珠甩離中心區域；設置噴氣裝置，可以快速將水珠吹 離基板中心區域，水珠被甩出，提高了工作效率。4、對于帶凹槽的基板，當噴 氣裝置噴向基板的中心區域時，氣流會沿著基板分散，可以將的凹槽內水分順 利吹出，結合高速離心可以將凹槽內的水分順利甩出，提高了工作效率。5、在 甩干時，相對單獨采用轉動裝置，噴氣裝置與轉動裝置的結合可以用較低的轉 速，節約了成本。

附圖說明

下面結合附圖對本實用新型作進一步說明：

圖1為本實用新型的結構示意圖；

圖2為本實用新型俯視時的結構示意圖；

圖3為在圖2的基礎上安裝上基板后的結構示意圖；

圖4為本實用新型在整臺機器上的使用狀態示意圖。

具體實施方式

參閱圖1、圖2和圖3，一種基板清洗裝置，包括槽體1、轉動裝置和噴氣 裝置，轉動裝置轉接在槽體1內，基板01水平安裝在轉動裝置上且在轉動裝置 的帶動下在水平面內旋轉，噴氣裝置設置在槽體1內壁上且朝向基板01的中心 區域噴氣。