[實用新型]一種真空泵雜質(zhì)沉淀裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201620043461.1 | 申請日： | 2016-01-18 |
| 公開（公告）號： | CN205287885U | 公開（公告）日： | 2016-06-08 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 徐峰;劉志峰;周克亮;呂想想;張谷明;袁香 | 申請（專利權(quán)）人： | 江蘇四通路橋工程有限公司 |
| 主分類號： | B01D45/16 | 分類號： | B01D45/16;F04D29/00;B65D88/54 |
| 代理公司： | 西安億諾專利代理有限公司 61220 | 代理人： | 韓素蘭 |
| 地址： | 215200 江蘇省*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 真空泵 雜質(zhì) 沉淀 裝置 | ||
1.一種真空泵雜質(zhì)沉淀裝置，包括中空的沉淀罐體（1），其特征在于，所述沉淀罐體（1）上設(shè)置有一進(jìn)氣管（2）和排氣管（3），所述進(jìn)氣管（2）設(shè)置在沉淀罐體（1）的頂部，進(jìn)氣管（2）的中心軸線與沉淀罐體（1）上表面所在平面相交，且進(jìn)氣管（2）的排氣端朝向沉淀罐體（1）底部；所述沉淀罐體（1）底部設(shè)置有一排污閥（4）。
2.如權(quán)利要求1所述一種真空泵雜質(zhì)沉淀裝置，其特征在于，所述沉淀罐體（1）由中空圓柱狀的沉淀罐體上部和中空錐狀的沉淀罐體下部組成，沉淀罐體上部和沉淀罐體下部固定相連，且沉淀罐體上部的直徑與沉淀罐體下部的最大直徑相等。
3.如權(quán)利要求2所述一種真空泵雜質(zhì)沉淀裝置，其特征在于，所述進(jìn)氣管（2）與沉淀罐體上部的罐壁相切。
4.如權(quán)利要求3所述一種真空泵雜質(zhì)沉淀裝置，其特征在于，所述沉淀罐體（1）上還設(shè)置有一沖洗口（5）。
5.如權(quán)利要求1或2或3或4所述一種真空泵雜質(zhì)沉淀裝置，其特征在于，所述進(jìn)氣管（2）的中心軸線與沉淀罐體（1）上表面所在平面之間的夾角為10°。
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