[實用新型]一種基于超聲駐波場的包覆壓電單元薄膜的制造裝置有效
| 申請號: | 201620025560.7 | 申請日: | 2016-01-12 |
| 公開(公告)號: | CN205303514U | 公開(公告)日: | 2016-06-08 |
| 發明(設計)人: | 薛岱;汪延成;梅德慶;謝擴;陳子辰 | 申請(專利權)人: | 浙江大學 |
| 主分類號: | H01L41/33 | 分類號: | H01L41/33 |
| 代理公司: | 杭州求是專利事務所有限公司 33200 | 代理人: | 林超 |
| 地址: | 310027 浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 超聲 駐波 壓電 單元 薄膜 制造 裝置 | ||
1.一種基于超聲駐波場的包覆壓電單元薄膜的制造裝置,其特征在于: 包括鈮酸鋰晶片(2)、銅質叉指電極(1)、PDMS微流道(3)和紫外光源(8),鈮酸 鋰晶片(2)的上表面形成有兩對正交排布的銅質叉指電極(1),銅質叉指電極(1) 與鈮酸鋰晶片(2)構成叉指換能器,各個銅質叉指電極(1)與信號發生器(5)的輸 出通道相連,PDMS微流道(3)覆蓋在鈮酸鋰晶片(2)的正中央,四個銅質叉指電 極(1)分別位于PDMS微流道(3)的周圍四邊并呈對稱分布,紫外光源(8)置于鈮 酸鋰晶片(2)下方。
2.根據權利要求1所述的一種基于超聲駐波場的包覆壓電單元薄膜的制造 裝置,其特征在于:所述的銅質叉指電極(1)通過光刻與濺射方法在鈮酸鋰晶片 (2)上制備。
3.根據權利要求1所述的一種基于超聲駐波場的包覆壓電單元薄膜的制造 裝置,其特征在于:所述的PDMS微流道(3)為內部中空且無底板的方殼體,殼 體頂部鉆有注射孔和排氣孔。
4.根據權利要求1所述的一種基于超聲駐波場的包覆壓電單元薄膜的制造 裝置,其特征在于:所述的叉指換能器是具有多種共振頻率的銅質叉指換能 器,每個銅質叉指電極(1)的指寬和間距由外向內逐漸遞減。
5.根據權利要求1所述的一種基于超聲駐波場的包覆壓電單元薄膜的制造 裝置,其特征在于:所述的壓電晶片采用128°Y切型、延X向傳播的雙面拋光 鈮酸鋰。
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