[實用新型]用于蒸鍍的加熱裝置和蒸鍍設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201620010104.5
• 申請日: 2016-01-05
• 公開（公告）號: CN205258591U
• 公開（公告）日: 2016-05-25
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 黃俊淞;劉曉云;葉嵐凱
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團股份有限公司;合肥鑫晟光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/26
• 分類號: C23C14/26;C23C14/54;C23C14/12
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種用于蒸鍍的加熱裝置，其特征在于，包括：

坩堝，用于盛裝蒸鍍原料；

可移動加熱單元，設(shè)置于所述坩堝的外部且蒸鍍時高于蒸鍍原料；

稱重傳感裝置，設(shè)置于所述坩堝的下方，用于稱重所述坩堝及坩堝內(nèi)蒸鍍 原料的重量并輸出；

控制器，與所述稱重傳感裝置相連，用于根據(jù)所述坩堝及坩堝內(nèi)蒸鍍原料 的重量計算所述坩堝內(nèi)蒸鍍原料的液位高度，并根據(jù)所述液位高度控制所述可 移動加熱單元到所述蒸鍍原料的高度。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加熱裝置，其特征在于，所述可移動加熱單元包 括：加熱單元和驅(qū)動所述加熱單元遠離或靠近所述蒸鍍原料的驅(qū)動機構(gòu)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的加熱裝置，其特征在于，所述驅(qū)動機構(gòu)包括：

至少兩個立柱，其長度方向垂直于所述坩堝的底部；

設(shè)置于所述立柱上的可移動支架，所述加熱單元的兩個端部分別固定于兩 個立柱的可移動支架上；

驅(qū)動馬達，用于驅(qū)動所述可移動支架沿所述立柱移動。

4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的加熱裝置，其特征在于，所述加熱單元包括： 加熱絲，貼靠于所述坩堝外壁。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項所述的加熱裝置，其特征在于，所述控制器具體 用于控制所述可移動加熱單元到所述蒸鍍原料的高度，使所述可移動加熱單元 到所述蒸鍍原料的高度保持恒定。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項所述的加熱裝置，其特征在于，還包括：溫度傳 感裝置，用于測量所述蒸鍍原料的溫度；

所述溫度傳感裝置與所述控制器相連，所述控制器還用于根據(jù)所述蒸鍍原 料的溫度控制所述可移動加熱單元到所述蒸鍍原料的高度。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項所述的加熱裝置，其特征在于，所述坩堝包括坩 堝主腔體和設(shè)置于所述坩堝主腔體內(nèi)的坩堝本體，所述稱重傳感裝置設(shè)置于所 述坩堝主腔體內(nèi)，且位于所述坩堝本體的下方。

8.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項所述的加熱裝置，其特征在于，所述稱重傳感裝 置為半導體壓力傳感器。

9.一種蒸鍍設(shè)備，其特征在于，包括權(quán)利要求1-8任一項所述的加熱裝置。