[實用新型]一種用于鍍錫生產線的電鍍液儲存槽

有效

• 申請號: 201620009882.2
• 申請日: 2016-01-07
• 公開（公告）號: CN205275770U
• 公開（公告）日: 2016-06-01
• 發明（設計）人: 田京雷;胡志剛;劉宏強;龔志強;畢杰勛
• 申請（專利權）人: 河北鋼鐵股份有限公司
• 主分類號: C25D21/18
• 分類號: C25D21/18;C25D21/02
• 代理公司: 石家莊冀科專利商標事務所有限公司 13108
• 代理人: 劉偉

技術領域

本實用新型涉及一種可減少錫泥產生而且具有自動排泥功能的電鍍液儲存槽，屬于對金屬材料的鍍覆技術領域。

背景技術

目前國內大部分鍍錫生產線采用弗洛斯坦不溶性陽極技術，該技術解決了可溶性陽極鍍錫工藝勞動強度大、鍍液膨脹外排的問題，但為了使鍍液中錫離子的濃度在電鍍過程中保持穩定，需要外加一個溶錫系統來補充Sn²⁺。溶錫系統由溶錫釜、三級溢流沉淀池、儲存槽及管道組成循環系統。溶錫釜內部由循環的電鍍液提供酸性環境，電鍍液從溶錫釜頂部溢流口進入三級溢流沉淀池，未完全反應的金屬錫顆粒在沉淀池內沉淀，電鍍液隨后進入電鍍液儲存槽。從儲存槽流出的電鍍液一部分進入電鍍錫循環系統，一部分進入溶錫循環系統。

溶錫過程中要在溶錫釜內通入適量的氧氣，以加速金屬錫顆粒的溶解。氧氣的通入在一定程度上使Sn²⁺氧化成Sn⁴⁺，Sn⁴⁺水解生成的α-錫酸是熱力學亞穩定相，有向β-錫酸轉變的強烈趨勢，且β-錫酸具有穩定的結構，不溶于酸。呈膠體狀分散在鍍液中的β-錫酸與Sn⁴⁺復合反應形成黃色錫泥沉淀，錫泥很容易在電鍍槽內沉積，因此需要定期對電鍍槽進行清理，不僅增加了工人的勞動強度，而且排泥過程中要將電鍍液儲存槽內的電鍍液排掉，造成錫資源的浪費和對周圍環境的污染。此外，金屬錫的溶解是放熱反應，電鍍液溫度的升高加速了錫離子的氧化，導致錫泥加速產生。由于現有的電鍍液儲存槽不具備高效沉淀功能，致使電鍍液渾濁，進而導致鍍錫板表面產生劃傷、小白點和污跡，嚴重影響了鍍層質量。因此，有必要研究一種能抑制錫泥的產生而且可自動排泥的電鍍液儲存槽。

實用新型內容

本實用新型的目的在于針對現有技術之弊端，提供一種用于鍍錫生產線的電鍍液儲存槽，以有效抑制錫泥的產生。

本實用新型所述問題是以下述技術方案實現的：

一種用于鍍錫生產線的電鍍液儲存槽，構成中包括鍍液均布池、鍍液沉淀池、鍍液澄清池和鍍液冷卻系統，所述鍍液均布池的下部設有進液管，鍍液均布池的上部通過溢流管與鍍液沉淀池連通；所述鍍液沉淀池的底部設有排泥管，鍍液沉淀池的側壁上部設有與鍍液澄清池對應的溢流口；所述鍍液澄清池的一側設有出液管；所述鍍液冷卻系統包括冷卻水池、變頻泵和安裝于鍍液均布池內部的螺旋狀的冷卻管，所述冷卻管、冷卻水池和變頻泵通過水管依次連接成環形水冷系統。

上述用于鍍錫生產線的電鍍液儲存槽，所述鍍液沉淀池內設有多個相互平行且沿水平方向均勻布置的斜板，所述斜板位于鍍液沉淀池的中上部并通過斜板支撐架與鍍液沉淀池的內壁連接，所述鍍液均布池的溢流管的出液口設置在鍍液沉淀池的中部并位于斜板的下方。

上述用于鍍錫生產線的電鍍液儲存槽，所述鍍液沉淀池內底部設有傾斜的污泥沉降板，所述污泥沉降板的高端與鍍液沉淀池的內壁連接，低端與排泥管的進泥口相對應。

上述用于鍍錫生產線的電鍍液儲存槽，所述鍍液均布池的溢流管的出液口朝下并與設在出液口下方的圓錐形鍍液分布器相對。

上述用于鍍錫生產線的電鍍液儲存槽，所述排泥管上設有污泥泵。

上述用于鍍錫生產線的電鍍液儲存槽，所述鍍液澄清池的內壁上設有與鍍液沉淀池的溢流口相對應的齒形溢流槽。

上述用于鍍錫生產線的電鍍液儲存槽，所述鍍液澄清池上安裝有澄清池溫度傳感器，所述鍍液均布池的進液管上安裝有流量計和進液管溫度傳感器，所述澄清池溫度傳感器、流量計和進液管溫度傳感器的信號輸出端接變頻泵的控制器。

本實用新型在鍍液均布池設置了鍍液冷卻系統，利用鍍液冷卻系統將鍍液溫度控制在合適范圍內，從而降低了錫離子的氧化速度，減少了錫泥的產生量，在減輕電鍍槽清理工作量的同時提高了鍍層質量。設置在鍍液沉淀池內的斜板提高了錫泥的沉淀效率，錫泥沉淀后由污泥泵不定期排出，降低了清理人員的勞動強度。此外，本實用新型還具有結構緊湊，操作方便，易于管理等優點。

附圖說明

下面結合附圖對本實用新型進一步說明。

圖1為本實用新型的結構示意圖。