[實用新型]一種調控和表征石墨烯帶隙的裝置

有效

• 申請號: 201620001775.5
• 申請日: 2016-01-04
• 公開（公告）號: CN205294852U
• 公開（公告）日: 2016-06-08
• 發明（設計）人: 張秋慧;陳朝陽;武興會;李小魁;黃全振
• 申請（專利權）人: 河南工程學院
• 主分類號: C01B31/04
• 分類號: C01B31/04;G01N21/65
• 代理公司: 鄭州優盾知識產權代理有限公司 41125
• 代理人: 張紹琳;孫詩雨

1.一種調控和表征石墨烯帶隙的裝置，其特征在于，包括He-Ne激光器（1）、第一全反鏡 （2）、第二全反鏡（3）、第一分光鏡（4）、第二分光鏡（5）、透鏡（6）、石墨烯樣品（7）、第三全反 鏡（8）、濾光片（9）、光譜儀（10）、CCD（11）、同步控制器（12）、計算機控制系統（13）和路由器 （14），所述He-Ne激光器（1）的光路上設有第一全反鏡（2），第一全反鏡（2）的反射光路上設 有第二全反鏡（3），第二全反鏡（3）的反射光路上設有第一分光鏡（4），第一分光鏡（4）的分 光光路上分別設有CCD（11）和第二分光鏡（5），第二分光鏡（5）的分光光路上分別設有透鏡 （6）和第三全反鏡（8），透鏡（6）與石墨烯樣品（7）相連接，CCD（11）與路由器（14）相連接，路 由器（14）與計算機控制系統（13）相連接；所述第二分光鏡（5）與第三全反鏡（8）相連接，第 三全反鏡（8）的反射光路上設有濾光片（9）和光譜儀（10），光譜儀（10）與路由器（14）、同步 控制器（12）相連接；所述同步控制器（12）分別與CCD（11）、He-Ne激光器（1）、石墨烯樣品 （7）、計算機控制系統（13）相連接。

2.根據權利要求1所述的調控和表征石墨烯帶隙的裝置，其特征在于，所述石墨烯樣品 （7）是放置在密封的透明玻璃空腔中的多層石墨烯，石墨烯樣品（7）是采用化學氣化沉積法 生長在銅片上，然后機械轉移到CaF玻璃基體上的石墨烯。

3.根據權利要求1所述的調控和表征石墨烯帶隙的裝置，其特征在于，所述He-Ne激光 器（1）是發出波長為632.8nm的He-Ne激光器，第一全反鏡（2）和第二全反鏡（3）是對波長為 632.8nm的光全反射的全反鏡；所述第一分光鏡（4）是對自右向左的波長為632.8nm的光全 透、對自左向右的波長為632.8nm的光全反的分光鏡；所述第二分光鏡（5）是對波長為 632.8nm的光全反、對其它波長的光全透的分光鏡。

4.根據權利要求1所述的調控和表征石墨烯帶隙的裝置，其特征在于，所述CCD（11）為 光電探測器，CCD（11）的像素為1280×1024。

5.根據權利要求3所述的調控和表征石墨烯帶隙的裝置，其特征在于，所述濾光片（9） 是對波長高于632.8nm的光截止、對波長低于632.8nm的光透過的濾光片。

6.根據權利要求5所述的調控和表征石墨烯帶隙的裝置，其特征在于，所述光譜儀（10） 為測量波段包含633±50nm的光譜儀。