[發明專利]環境阻擋涂層及其沉積方法

在審

• 申請號: 201611270640.X
• 申請日: 2016-12-30
• 公開（公告）號: CN107043904A
• 公開（公告）日: 2017-08-15
• 發明（設計）人: T.R.格羅斯曼;J.L.馬戈利斯
• 申請（專利權）人: 通用電氣公司
• 主分類號: C23C4/134
• 分類號: C23C4/134;C23C4/11
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司72001
• 代理人: 徐晶,周李軍

1.制備用于基材的環境阻擋涂層(EBC)的方法，所述方法包括：

提供包含稀土元素成分的EBC原料，其中所述成分的一部分在空氣等離子體噴霧涂布方法期間產生揮發物類；

提供包含或在空氣等離子體噴霧涂布方法期間產生所述揮發物類的第一添加劑；

在空氣等離子體噴霧涂布方法期間注射所述EBC原料到等離子體噴霧羽流中；和

在空氣等離子體噴霧涂布方法期間注射所述第一添加劑到所述等離子體噴霧羽流和等離子體炬噴嘴中的至少一個中，

其中所述EBC的組成基本上類似于所述EBC原料的組成。

2.權利要求1的方法，其中所述基材為陶瓷基質復合材料。

3.權利要求1的方法，其中所述EBC原料選自稀土單硅酸鹽、稀土二硅酸鹽、稀土氧化物、稀土鋁硅酸鹽及其組合。

4.權利要求3的方法，其中所述稀土選自鈧、釔、鏑、鈥、鉺、銩、鐿、镥、銪、釓、鋱及其組合。

5.權利要求1的方法，其中所述稀土元素選自鑭、鈰、鐠、釹、钷、釤、銪、釓、鋱、鏑、鈥、鉺、銩、鐿、镥及其組合。

6.權利要求1的方法，其中所述第一添加劑以粉末形式注射到所述等離子體噴霧羽流中。

7. 權利要求6的方法，其中存在于所述第一添加劑中的或通過所述第一添加劑產生的揮發物類的濃度為約0.01 ppb-約10 ppm。

8.權利要求6的方法，其中所述第一添加劑為金屬硅、二氧化硅或其組合。

9.權利要求1的方法，其中所述第一添加劑以氣體形式注射到所述等離子體噴霧羽流和所述等離子體炬噴嘴中的至少一個中。

10.權利要求9的方法，其中所述第一添加劑選自硅烷、鹵代硅烷、有機硅烷、雜硅烷及其組合。