[發明專利]一種等離子體參數自動控制磁控濺射鍍膜裝置在審
| 申請號： | 201611267454.0 | 申請日： | 2016-12-31 |
| 公開（公告）號： | CN106521447A | 公開（公告）日： | 2017-03-22 |
| 發明（設計）人： | 滕海燕 | 申請（專利權）人： | 合肥優億科機電科技有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/54 | 分類號： | C23C14/54;C23C14/35 |
| 代理公司： | 合肥天明專利事務所(普通合伙)34115 | 代理人： | 婁岳,金凱 |
| 地址： | 230888 安徽省合肥市高*** | 國省代碼： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 等離子體 參數 自動控制 磁控濺射 鍍膜 裝置 | ||
【權利要求書】：
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