[發(fā)明專利]晶體中心位置圖生成方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201611266541.4
• 申請日: 2015-04-29
• 公開（公告）號: CN106611173B
• 公開（公告）日: 2020-06-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 周鑫;李麗平;李強(qiáng);呂新宇;安少輝
• 申請（專利權(quán)）人: 上海聯(lián)影醫(yī)療科技有限公司
• 主分類號: G06K9/32
• 分類號: G06K9/32;G06K9/38;G06K9/46
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種晶體中心位置圖生成方法，其特征在于，包括如下步驟：

獲取光子事件二維直方圖I，將所述光子事件二維直方圖I進(jìn)行均衡化校正，

將均衡化校正后的二維直方圖I歸一化至[0，1]之間，獲得圖像I₀；

對所述圖像I₀進(jìn)行迭代處理得到圖像I_i；

使用自動閾值對所述圖像I_i進(jìn)行二值化處理，獲得二值圖像集S_B；

提取所述二值圖像集S_B中的每幅二值圖像的連通域及其對應(yīng)的中心位置；

判斷所述連通域彼此是否有重疊；

保留有重疊的連通域中迭代次數(shù)最大的連通域；

將所述連通域?qū)?yīng)的中心位置在二維圖形中標(biāo)出，生成晶體中心位置圖，所述晶體中心位置圖包括有重疊的連通域中迭代次數(shù)最大的連通域?qū)?yīng)的中心位置以及沒有重疊的連通域?qū)?yīng)的中心位置。

2.如權(quán)利要求1所述的晶體中心位置圖生成方法，其特征在于，判斷所述連通域彼此是否有重疊的具體步驟為：

將一個(gè)連通域內(nèi)的任意位置與另一個(gè)連通域內(nèi)的任意位置進(jìn)行比較，如果相同即表示這兩個(gè)連通域彼此有重疊。

3.如權(quán)利要求1所述的晶體中心位置圖生成方法，其特征在于，所述保留有重疊的連通域中迭代次數(shù)最大的連通域的具體步驟為：

比較彼此有重疊的連通域的對應(yīng)圖像I_i的迭代次數(shù)i，剔除對應(yīng)迭代次數(shù)較小的連通域。

4.如權(quán)利要求1所述的晶體中心位置圖生成方法，其特征在于，所述有重疊的連通域中僅保留迭代次數(shù)最大的連通域的具體步驟為：比較所述彼此有重疊的連通域的面積，剔除面積較大的連通域。

5.如權(quán)利要求1所述的晶體中心位置圖生成方法，其特征在于，還包括設(shè)置面積閾值，剔除連通域面積大于所述面積閾值的連通域。

6.如權(quán)利要求1所述的晶體中心位置圖生成方法，其特征在于，所述將均衡化后的二維直方圖I歸一化至[0，1]之間采用線性收放的方式進(jìn)行，即max(I)是所述均衡化后的二維直方圖中的最大值，min(I)是所述均衡化后的二維直方圖中的最小值。

7.如權(quán)利要求6所述的晶體中心位置圖生成方法，其特征在于，所述光子事件二維直方圖最大值max(I)按照比例ε獲得，即取所述光子事件二維直方圖的灰度直方圖面積的p處的灰度為最大值max(I)，p＝1-ε，圖中超出最大值的max(I)的值強(qiáng)制轉(zhuǎn)換成max(I)。

8.如權(quán)利要求7所述的晶體中心位置圖生成方法，其特征在于，所述比例其中n是所述光子事件二維直方圖中實(shí)際包含的晶體數(shù)量，N_p是光子事件二維直方圖的像素?cái)?shù)量。

9.如權(quán)利要求1所述的晶體中心位置圖生成方法，其特征在于，所述自動閾值的選取基于光子事件二維直方圖的灰度直方圖，所述閾值將所述光子事件二維直方圖的灰度直方圖分成兩部分，所述兩部分的質(zhì)心到所述自動閾值的距離相等。