[發明專利]套刻機臺測試焦點的套刻標記

在審

• 申請號: 201611265857.1
• 申請日: 2016-12-30
• 公開（公告）號: CN108267940A
• 公開（公告）日: 2018-07-10
• 發明（設計）人: 李玉華;王亞超
• 申請（專利權）人: 無錫華潤上華科技有限公司
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 吳平

1.一種套刻機臺測試焦點的套刻標記，所述套刻標記包括橫向標記和縱向標記；其特征在于，所述橫向標記包括多個第一長標記和多個第一短標記，所述多個第一長標記與多個第一短標記平行排列；所述第一長標記包括第一長矩形標記和第一光柵狀標記，所述第一長矩形標記與所述第一光柵狀標記平行排列；所述第一短標記與所述第一長標記的排列形狀相似，所述第一短標記的長度為第一長標記的長度1/4到1/3；所述縱向標記包括多個第二長標記和多個第二短標記，所述多個第二長標記與多個第二短標記平行排列；所述第二長標記包括第二長矩形標記和第二光柵狀標記，所述第二長矩形標記與所述第二光柵狀標記平行排列；所述第二短標記與所述第二長標記的排列形狀相似，所述第二短標記的長度為第二長標記的長度1/4到1/3；

所述多個第一長標記與所述多個第二長標記呈口字型排列形成外層標記；所述多個第一短標記與所述多個第二短標記呈口字型排列形成內層標記，且所述內層標記被所述外層標記包圍。

2.根據權利要求1所述的套刻機臺測試焦點的套刻標記，其特征在于，所述第一長標記的寬度為2±0.4μm。

3.根據權利要求1所述的套刻機臺測試焦點的套刻標記，其特征在于，所述第一短標記的寬度為2±0.4μm。

4.根據權利要求1所述的套刻機臺測試焦點的套刻標記，其特征在于，所述第一長矩形的寬度為1±0.2μm。

5.根據權利要求1所述的套刻機臺測試焦點的套刻標記，其特征在于，所述第一光柵狀標記包括多個小矩形，所述小矩形的寬度為0.08±0.01μm，多個小矩形之間的距離為0.08±0.01μm。

6.根據權利要求1所述的套刻機臺測試焦點的套刻標記，其特征在于，所述第一長標記的長度為18±2μm。

7.根據權利要求1所述的套刻機臺測試焦點的套刻標記，其特征在于，所述第一長標記與相鄰排列的所述第一短標記之間的距離為1±0.2μm。

8.根據權利要求1所述的套刻機臺測試焦點的套刻標記，其特征在于，所述第一短標記的長度為6±1μm。

9.根據權利要求1所述的套刻機臺測試焦點的套刻標記，其特征在于，所述第一長標記的光柵狀標記與相鄰排列的所述第一短標記的光柵狀標記相對或相背。

10.根據權利要求1所述的套刻機臺測試焦點的套刻標記，其特征在于，所述第二長標記的光柵狀標記與相鄰排列的所述第二短標記的光柵狀標記相對或相背。