[發明專利]含氮稠雜環化合物、制備方法、中間體、組合物和應用

有效

• 申請號: 201611265083.2
• 申請日: 2016-12-30
• 公開（公告）號: CN106928219B
• 公開（公告）日: 2021-08-20
• 發明（設計）人: 夏廣新;王倩;石辰;翟雄;葛輝;廖雪梅;毛煜;向志雄;韓雅男;霍國永;劉彥君
• 申請（專利權）人: 上海醫藥集團股份有限公司
• 主分類號: C07D471/04
• 分類號: C07D471/04;C07F5/02;C07F9/6561;A61K31/69;A61K31/675;A61K31/506;A61K31/5377;A61P35/00
• 代理公司: 上海弼興律師事務所 31283
• 代理人: 薛琦;陳卓

1.一種如式I所示的含氮稠雜環化合物、其藥學上可接受的鹽、其對映異構體、其非對映異構體或其互變異構體；

其中，p和q獨立地為1；

m為0或1，n為0；

X為N，Y為CH或N；

環中的N原子為氧化態或非氧化態；

R¹為氫、羥基、鹵素、鹵素取代的C₁～C₂₀烷基；

R²為未取代的C₁～C₂₀烷基；

R³為取代的或未取代的C₁～C₂₀烷基、取代的或未取代的C₃～C₁₂環烷基、或取代或未取代的C₁～C₉雜環烷基；其中，R³中所述的“雜環烷基”經其中的碳原子和其他基團進行連接，雜環烷基的雜原子為O、N和S中的一種或多種，雜原子的個數為1～3個；

所述R³的“取代的或未取代的C₁～C₂₀烷基”、“取代或未取代的C₁～C₉雜環烷基”和“取代的或未取代的C₃～C₁₂環烷基”中所述的“取代”獨立地為被一個或多個以下基團所取代，當存在多個取代基時，所述的取代基相同或不同：鹵素、羥基、氧代、C₁～C₂₀烷基和C₃～C₁₂環烷基；

R⁴為鹵素；

所述的R¹和所述的R⁴中至少一個為鹵素；

R⁵為氫、取代或未取代的C₁～C₂₀烷基、取代或未取代的C₂～C₂₀炔基、取代或未取代的C₁～C₉雜環烷基、所述的“C₁～C₉雜環烷基”經其中的碳原子和其他基團進行連接；

所述的R⁵中，每個R⁸獨立地為取代或未取代的C₂～C₂₀烯基、取代或未取代的C₃～C₁₂環烷基、取代或未取代的C₁～C₉雜環烷基、未取代的C₁～C₂₀烷氧基或其中，所述的“C₁～C₉雜環烷基”經其中的碳原子或者雜原子和其他基團進行連接；

所述的R⁵中，每個R⁹獨立地為取代或未取代的C₁～C₂₀烷基、取代或未取代的C₂～C₂₀炔基、取代或未取代的C₃～C₁₂環烷基、取代或未取代的C₁～C₂₀烷氧基、取代或未取代的C₁～C₉雜環烷基、或其中，所述的“C₁～C₉雜環烷基”經其中的碳原子或者雜原子和其他基團進行連接；

所述的R⁸和R⁹中的每個R^10a和R^10b獨立地為取代或未取代的C₁～C₂₀烷基；

所述的R⁵、R⁸、R⁹、R^10a和R^10b中所述的每個“取代或未取代的C₁～C₂₀烷基”、“取代或未取代的C₂～C₂₀烯基”、“取代或未取代的C₂～C₂₀炔基”、“取代或未取代的C₃～C₁₂環烷基”、“取代或未取代的C₁～C₉雜環烷基”、和“取代或未取代的C₁～C₂₀烷氧基”中所述的“取代”獨立地為被一個或多個以下基團所取代，當存在多個取代基時，所述的取代基相同或不同：C₁～C₂₀烷基、C₂～C₂₀炔基、羥基、C₁～C₂₀硅烷基、鹵素、C₁～C₂₀烷氧基、C₃～C₁₂環烷基、取代或未取代的C₁～C₉飽和或不飽和雜環烷基、其中，“取代或未取代的C₁～C₉飽和或不飽和雜環烷基”中所述的“取代”為被一個或多個以下基團所取代，當存在多個取代基時，所述的取代基相同或不同：亞甲基、氧代、羥基、-PO(OH)₂、-PO(OR^ps)₂、乙炔基取代或未取代的C₁～C₂₀烷基和-B(OH)₂，其中R^ps獨立地為C₁～C₆烷基；所述的“雜環烷基”經其中的碳原子或者雜原子和其他基團進行連接；中的N原子為氧化態或非氧化態；

其中，R^11a和R^11b獨立地為氫、取代或未取代的C₁～C₂₀烷基、取代或未取代的C₂～C₂₀烯基、取代或未取代的C₂～C₂₀炔基、或者，中R^11a、R^11b及與它們相連接的N成共同形成其中t和u獨立地為2，R^c為S、Si(R^cs)₂或Se，每個R^cs獨立地為H或C₁～C₆烷基；或者，中R^11a、R^11b及與它們相連接的N成共同形成其中v1和w1獨立地為2，R^c1和R^c2獨立地為O或NH；

其中，所述的R^11a和R^11b中所述的“取代或未取代的C₁～C₂₀烷基”、“取代或未取代的C₂～C₂₀烯基”和“取代或未取代的C₂～C₂₀炔基”中所述的“取代”獨立地為被一個或多個以下基團所取代，當存在多個取代基時，所述的取代基相同或不同：C₁～C₂₀烷基、C₂～C₂₀烯基、C₂～C₂₀炔基、羥基、C₁～C₂₀硅烷基、

其中，每個R¹²獨立地為羥基、C₁～C₂₀烷氧基或

其中，每個R¹⁴獨立地為C₁～C₂₀烷基；

其中，每個R¹⁵、R^16a和R^16b獨立地為氫或氰基；

其中，R^17a獨立地為氫、或氨基；

其中，R^17b獨立地為羥基；

其中，所述的R²⁰獨立地為C₃～C₅雜芳基或

其中，所述的R²²為氫；

其中，所述的R^24a獨立地為氨基或C₁～C₂₀烷基；

其中，所述的R^24b獨立地為氫、或羥基；

其中，所述的R^25a和R^25b獨立地為羥基、C₁～C₂₀烷氧基或C₁～C₂₀烷基；

其中，所述的R^27a和R^27b獨立地為氫、或者未取代的C₁～C₂₀烷基；

其中，所述的R^29a和R^29b獨立地為氫；

R^6a、R^6b、R^6c和R^6d獨立地為氫或C₁～C₂₀烷基；或者，R^6c、R^6d與它們相連的碳形成羰基；

所述的R⁵、R⁸、R⁹、R^10a和R^10b中所述的“雜環烷基”中的雜原子為1～7個并選自氧、氮、磷、硫、硒和硅中的一種或多種；所述的“雜芳基”中的雜原子為1～7個并選自氧、氮、磷、硫、硒和硅中的一種或多種；

且，所述的化合物I不為如下任一化合物：