[發(fā)明專利]光學(xué)效應(yīng)結(jié)構(gòu)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201611264146.2
• 申請日: 2011-06-27
• 公開（公告）號: CN106842394A
• 公開（公告）日: 2017-06-13
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 安德魯·理查德·帕克
• 申請（專利權(quán)）人: 安德魯·理查德·帕克
• 主分類號: G02B5/02
• 分類號: G02B5/02
• 代理公司: 廣州華進聯(lián)合專利商標代理有限公司44224
• 代理人: 劉培培

1.一種應(yīng)用于物體表面的光學(xué)效應(yīng)結(jié)構(gòu)，所述光學(xué)效應(yīng)結(jié)構(gòu)包括多個散射結(jié)構(gòu)，該多個散射結(jié)構(gòu)被構(gòu)造為大致垂直于物體的表面延伸的多個壁，所述多個壁按一種圖形布置，從而基本防止反射光與物體的表面法線成30°或更大的角度離開物體表面。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)效應(yīng)結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述壁的橫截面是矩形、三角形或梯形。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)效應(yīng)結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述壁形成六邊形、任意多邊形、或在非周期的空間相遇以形成非均勻空間的隨機曲線。

4.根據(jù)權(quán)利要求1、2或3所述的光學(xué)效應(yīng)結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述壁的高度為1000-5000nm，且其中所述壁優(yōu)選設(shè)置為基本防止反射光以與表面法線呈20℃或更大的角度，優(yōu)選10°或更大角度離開物體表面。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項所述的光學(xué)效應(yīng)結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述壁形成六邊形，其中所述六邊形的高度約為3000nm的，和/或

其中，所述六邊形的邊的長度為2000-7000nm，優(yōu)選約為5000nm，和/或

其中，所述六邊形包括垂直于物體表面延伸的多個板，其中所述板有規(guī)律地排列，所述板和壁的周期性元件間隔大于2000nm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-4中任一項所述的光學(xué)效應(yīng)結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述散射元件形成任意多邊形，寬1000-3000nm，優(yōu)選約2500nm，或其中，所述散射元件形成在非周期的空間相遇的隨機曲線，以形成寬1000nm-3000nm的非均勻空間，優(yōu)選約為2500nm。

7.一種光學(xué)涂層結(jié)構(gòu)，該光學(xué)涂層結(jié)構(gòu)應(yīng)用于物體表面，以賦予物體亞光效果，所述光學(xué)涂層結(jié)構(gòu)包括多個散射結(jié)構(gòu)，該多個散射結(jié)構(gòu)至少在高度和寬度尺寸上為亞微米級，并以非周期方式排列，

其中，所述光學(xué)涂層結(jié)構(gòu)包括多層反射體，該多層反射體包括交替堆疊的較高折射率層和較低折射率層，和

其中，所述散射結(jié)構(gòu)沉積在多層反射體的最上層。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光學(xué)涂層結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述散射結(jié)構(gòu)是垂直于物體表面延伸的板。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的光學(xué)涂層結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述板具有大致為矩形、三角形或梯形的橫截面。

10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的光學(xué)涂層結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述板的長度為500nm-1500nm，優(yōu)選約1000nm，和/或

所述板的平均基部寬度為100nm-200nm，優(yōu)選約140nm-160nm，更優(yōu)選平均基部寬度約為150nm，和/或

所述板的高度約為1000nm-500nm，優(yōu)選約700nm-600nm，更優(yōu)選高度約為650nm。

11.根據(jù)權(quán)利要求8、9或10所述的光學(xué)涂層結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述板由折射率為1.6或更大的透明材料制成，和/或

其中，所述輪廓元件包括透明或黑色材料，該材料具有與所述多層反射體的相鄰層至少相差0.5的折射率。

12.根據(jù)權(quán)利要求8-11中任意一項所述的光學(xué)涂層結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述光學(xué)涂層結(jié)構(gòu)包括透明覆蓋層，所述覆蓋層優(yōu)選具有的折射率至少比所述板的折射率高或低0.5。

13.根據(jù)權(quán)利要求7-12中任意一項所述的光學(xué)涂層結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述多層反射體包括優(yōu)選選自以下各項的不同電介質(zhì)材料的交替層：二氧化硅、二氧化鈦、硫化鋅、氟化鎂和五氧化二鉭。

14.根據(jù)前面任意一項權(quán)利要求所述的光學(xué)效應(yīng)結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述散射結(jié)構(gòu)利用印刷技術(shù)，優(yōu)選納米印刷，進行材料沉積來形成的，或通過壓印形成。

15.根據(jù)前面任意一項權(quán)利要求所述的光學(xué)效應(yīng)結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述光學(xué)效應(yīng)結(jié)構(gòu)與設(shè)置在物體表面的構(gòu)造的宏觀結(jié)構(gòu)結(jié)合。