[發明專利]光敏組合物

在審

• 申請號: 201611262437.8
• 申請日: 2016-12-30
• 公開（公告）號: CN106950800A
• 公開（公告）日: 2017-07-14
• 發明（設計）人: 井本英之;近藤學;中原鐵舟
• 申請（專利權）人: JNC株式會社
• 主分類號: G03F7/027
• 分類號: G03F7/027;C08G69/44;G02B5/20
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司11002
• 代理人: 張晶,謝順星

技術領域

本發明涉及一種用于各種元件中的光敏組合物、由該光敏組合物形成的固化膜、及使用有固化膜的濾色器、絕緣膜或保護膜。

背景技術

在制備工序時，顯示元件等元件通常在元件的表面上施加化學藥品處理或高溫加熱處理。因此，為了防止元件的表面劣化、損傷、變質而設有保護膜。在對保護膜要求耐熱性、耐化學藥品性、對基板的密合性、透明性及平坦性的同時，還要求良好的分辨率與留膜率。

保護膜大致區分為通過熱固性組合物與光敏組合物而形成。通過熱固性組合物而形成時，成膜時產生的揮發成分抑制的較低，且耐熱性優異。但熱固性組合物難以形成劃線，需要清洗工序以清洗在切割面板時產生的屑末。

另一方面，通過光敏組合物而形成時，容易形成劃線，成型性優異。因此，可微成型(微細圖案化)的光敏組合物作為保護膜的需求增加。

但是，為了形成優異的微細圖案形狀，需要在光敏組合物中保持適當的溶解性，使分辨率與留膜率之間適當地平衡。若為了提高分辨率而提高未曝光部的溶解性，則曝光部的溶解性也增高，留膜率降低。另一方面，若為了提高留膜率而降低曝光部的溶解性，則未曝光部的溶解性也降低，分辨率降低。即，光敏組合物需要以提高曝光部的溶解性、降低未曝光部的溶解性的方式，選擇適當的組合比例。因此，對于光敏組合物而言，將聚酯酰胺酸等的組合比例或構成保持在最佳，使分辨率或留膜率的關系適當是困難的。

例如，如專利文獻1及2所示，為了提高溶解性，作為光敏組合物的原料的聚酰亞胺前驅體或可溶性聚酰亞胺需要高極性的有機溶劑，然而，在適用于濾色器的情況下，存在顏料或染料等著色材料溶出到高極性有機溶劑中的缺陷。

因此，如專利文獻3所示，本申請的發明人們提出了以下方案：通過使酸酐、二胺及多羥基化合物之間的比例為規定的范圍來合成聚酯酰胺酸，且將具有雙鍵的化合物或環氧化合物等的總量設定在規定的范圍內。由此，光敏組合物不需要高極性的有機溶劑，對基板的涂布性或平坦性提高，形成優異的微細圖案形狀。

本申請發明人們進一步進行改良，為了提高微細圖案形狀的成型性，通過使聚酯酰胺酸(A)具有聚合性雙鍵作為必需構成成分，研究了分辨率與留膜率之間的適當關系。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開昭59-68332

專利文獻2：日本特開2002-3516

專利文獻3：日本特開2016-103010

發明內容

本發明要解決的技術問題

在此，本發明的技術問題在于提供一種固化膜及形成該固化膜的光敏組合物，該固化膜在耐熱性、透明性、平坦性優異的同時，分辨率及留膜率也優異。此外，使用有該組合物的濾色器或保護膜等適用于各種用途中。

解決技術問題的技術手段

本申請發明人們為了解決上述技術問題進行了仔細研究，其結果，本發明的光敏組合物含有：具有聚合性雙鍵的聚酯酰胺酸(A)、該聚酯酰胺酸(A)以外的具有聚合性雙鍵的化合物(B)、光聚合引發劑(C)、環氧化合物(D)及添加劑(E)。此外，聚酯酰胺酸(A)通過將四羧酸二酐、二胺及多羥基化合物作為必需的原料成分進行反應而得到。

根據本發明的一個實施方式，光敏組合物含有：具有聚合性雙鍵的聚酯酰胺酸(A)、該聚酯酰胺酸(A)以外的具有聚合性雙鍵的化合物(B)、光聚合引發劑(C)、環氧化合物(D)、添加劑(E)。并且，該光敏組合物的特征在于，

聚酯酰胺酸(A)通過使X摩爾的四羧酸二酐、Y摩爾的二胺、Z摩爾的多羥基化合物以下述式(1)及式(2)的關系成立的比例進行反應而得到。

0.2≤Z/Y≤8.0·······(1)

0.2≤(Y+Z)/X≤5.0···(2)

此外，化合物(B)每一分子含有2個以上聚合性雙鍵，環氧化合物(D)每一分子含有2～10個環氧基且重均分子量小于3,000。此外，相對于聚酯酰胺酸(A)100重量份，化合物(B)的總量為20～300重量份，環氧化合物(D)的總量為20～200重量份。

所述聚酯酰胺酸(A)含有下述式(3)所示的結構單元及下述式(4)所示的結構單元。