[發明專利]一種基于離散系數評價磨粒軌跡均勻性的方法

在審

• 申請號: 201611262372.7
• 申請日: 2016-12-30
• 公開（公告）號: CN106815417A
• 公開（公告）日: 2017-06-09
• 發明（設計）人: 陳珍珍;文東輝;章少杰
• 申請（專利權）人: 浙江工業大學
• 主分類號: G06F17/50
• 分類號: G06F17/50
• 代理公司: 杭州浙科專利事務所(普通合伙)33213
• 代理人: 吳秉中

1.一種基于離散系數評價磨粒軌跡均勻性的方法，其特征在于：包括如下步驟：

(1)將研磨盤劃分出n個均等的網格劃分區域，并建立以研磨盤回轉中心O₁為原點的絕對坐標系σ₁＝[O₁,x₁,y₁]和以工件盤回轉中心O₂為原點的相對坐標系σ₂＝[O₂,x₂,y₂]，研磨盤沿絕對坐標系σ₁的原點O₁旋轉，相對坐標系σ₂以角速度ω_w隨工件旋轉；

(2)取研磨盤上任意一顆磨粒P，在研磨盤沿絕對坐標系σ₁旋轉和工件沿相對坐標系σ₂旋轉的同時，取指定時間段t，統計出每個網格劃分區域內的軌跡點個數，并設第k個網格劃分區域內軌跡點個數為Q_k(k＝1,2,...,n)；

(3)計算所有的網格劃分區域內軌跡點個數的均值其計算公式為：

$\stackrel{\‾}{Q}=\frac{Q_1+Q_2+\mathrm{...}+Q_k+\mathrm{...}+Q_{n-1}+Q_n}{n};$

(4)計算第k個網格劃分區域內軌跡均勻性的標準差，其計算公式為：

$S_Q=\sqrt{\frac{\underset{k=1}{\overset{n}{\mathrm{\Σ}}}{(Q_k-\stackrel{\‾}{Q})}^2}{n-1}};$

(5)計算第k個網格劃分區域內軌跡均勻性的離散系數表征函數，其計算公式為：

$CV=S_Q/\stackrel{\‾}{Q}=S_Q=\sqrt{\frac{\underset{k=1}{\overset{n}{\mathrm{\Σ}}}{(Q_k-\stackrel{\‾}{Q})}^2}{n-1}}/\stackrel{\‾}{Q}=\sqrt{\frac{\underset{k=1}{\overset{n}{\mathrm{\Σ}}}{(Q_k-\stackrel{\‾}{Q})}^2}{(n-1){\stackrel{\‾}{Q}}^2}};$

(6)根據每個網格劃分區域內軌跡均勻性的離散系數CV來判斷磨粒軌跡的均勻性，CV越大，磨粒軌跡均勻性越差；CV越小，磨粒軌跡均勻性越好。