[發(fā)明專利]一種基于超表面窄帶濾光的多光譜芯片及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201611261268.6 | 申請(qǐng)日: | 2016-12-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106847849B | 公開(公告)日: | 2019-01-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 魚衛(wèi)星;楊靖忠;仝曉剛;胡炳樑 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院西安光學(xué)精密機(jī)械研究所 |
| 主分類號(hào): | H01L27/146 | 分類號(hào): | H01L27/146;H01L27/148;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 西安智邦專利商標(biāo)代理有限公司 61211 | 代理人: | 汪海艷 |
| 地址: | 710119 陜西省西*** | 國(guó)省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 表面 窄帶 濾光 光譜 芯片 及其 制備 方法 | ||
1.一種基于超表面窄帶濾光的多光譜芯片,其特征在于:包括面陣圖像傳感器和超表面結(jié)構(gòu)濾光片陣列,所述超表面結(jié)構(gòu)濾光片陣列包括兩層納米膜鈍化層及位于兩層納米膜鈍化層之間的金屬納米孔周期陣列結(jié)構(gòu);所述超表面結(jié)構(gòu)濾光片陣列位于面陣圖像傳感器上;所述金屬納米孔周期陣列結(jié)構(gòu)包括金屬介質(zhì)膜層,所述金屬介質(zhì)膜層上具有不同尺寸的周期性納米孔陣列;
所述金屬納米孔周期陣列結(jié)構(gòu)包括N個(gè)相同的濾光區(qū)域,每一個(gè)濾光區(qū)域由M種不同結(jié)構(gòu)參數(shù)的金屬納米孔陣列組成,其中該M種不同結(jié)構(gòu)參數(shù)的金屬納米孔陣列的納米孔徑大小分別為D1、D2,……DM,周期大小分別為P1、P2,……PM,每種金屬納米孔陣列視為一個(gè)濾光片單元,所述濾光片單元的大小與圖像傳感器像元大小相同,其中N和M均為大于等于2的正整數(shù)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于超表面窄帶濾光的多光譜芯片,其特征在于:所述金屬納米孔陣列排布滿足以下公式:
其中ω為入射光角頻率,λ為入射光的波長(zhǎng),εm(ω),εd(ω)分別為金屬層與鈍化層的介電常數(shù);k(a,b)為入射光在超表面結(jié)構(gòu)衍射的波矢量,其中a,b是與金屬納米孔陣列排布方式以及具體結(jié)構(gòu)參數(shù)有關(guān)的量;當(dāng)相位匹配條件k(a,b)=ksp(ω)得以滿足時(shí)有,
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于超表面窄帶濾光的多光譜芯片,其特征在于:所述兩層納米膜鈍化層的厚度相等。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國(guó)科學(xué)院西安光學(xué)精密機(jī)械研究所,未經(jīng)中國(guó)科學(xué)院西安光學(xué)精密機(jī)械研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





