[發明專利]一種掩膜版,彩膜基板及其制作方法有效
| 申請號: | 201611260568.2 | 申請日: | 2016-12-30 |
| 公開(公告)號: | CN106773526B | 公開(公告)日: | 2020-09-01 |
| 發明(設計)人: | 王威 | 申請(專利權)人: | 武漢華星光電技術有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/44 | 分類號: | G03F1/44 |
| 代理公司: | 深圳市銘粵知識產權代理有限公司 44304 | 代理人: | 孫偉峰 |
| 地址: | 430070 湖北省武漢市*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 掩膜版 彩膜基板 及其 制作方法 | ||
1.一種掩膜版,包括:
第一開口區,對應于顯示面板的顯示區域,包括用于形成顯示區域像素圖案的開口;
第二開口區,對應于顯示面板的非顯示區域,
其中,所述第二開口區用于形成像素測試圖案,包括縱向設置的第一矩形子開口和第二矩形子開口,兩個矩形子開口沿長邊縱向排列設置,并且所述第二矩形子開口相對于所述第一矩形子開口橫向偏移預定距離,所述第一矩形子開口和所述第二矩形子開口橫向距離最遠的兩邊之間的橫向距離,等于所述第一開口區用于形成像素圖案的開口的橫向寬度,通過移動掩膜版一個像素圖案的橫向寬度對應的距離形成的另一顏色像素對應的測試圖案,
所述第一矩形子開口的橫向寬度和所述第二矩形子開口的橫向寬度均大于所述第一開口區用于形成像素圖案的開口的橫向寬度的二分之一,并且小于所述第一開口區用于形成像素圖案的開口的橫向寬度。
2.根據權利要求1所述的掩膜版,其特征在于,所述第一矩形子開口的橫向寬度等于所述第二矩形子開口的橫向寬度。
3.一種彩膜基板,包括:
顯示區域,包括用于進行顯示的像素矩陣;
非顯示區域,包括用于檢測像素矩陣中各顏色像素的像素測試圖案,
其中,每一顏色像素對應的像素測試圖案包括第一矩形測試圖案和第二矩形測試圖案,兩個矩形測試圖案的長邊縱向排列設置,并且所述第二矩形測試圖案相對所述第一矩形測試圖案橫向偏移預定距離設置,相鄰不同顏色像素對應的測試圖案的第一矩形測試圖案之間和第二矩形測試圖案之間具有間隙,
所述第一矩形測試圖案和所述第二矩形測試圖案橫向距離最遠的兩邊之間的橫向距離,等于所述顯示區域相同顏色像素的橫向寬度,第一矩形測試圖案由對應的第一矩形子開口曝光形成,第二矩形測試圖案由對應的第二矩形子開口曝光形成,通過移動掩膜版一個像素圖案的橫向寬度對應的距離形成的另一顏色像素對應的測試圖案,
所述第一矩形測試圖案的橫向寬度和所述第二矩形測試圖案的橫向寬度均大于所述顯示區域的對應顏色像素的橫向寬度的二分之一,并且小于所述顯示區域的對應顏色像素的橫向寬度。
4.根據權利要求3所述的彩膜基板,其特征在于,所述第一矩形測試圖案的橫向寬度等于所述第二矩形測試圖案的橫向寬度。
5.根據權利要求3所述的彩膜基板,其特征在于,所述顯示區域的像素矩陣中各顏色像素的橫向寬度相等。
6.一種采用權利要求1或2所述掩膜版來制作彩膜基板的方法,在形成像素測試圖案時包括以下步驟:
采用所述掩膜版曝光形成第一顏色像素對應的測試圖案;
將所述掩膜版橫向移動顯示區域一個像素的橫向距離并曝光形成第二顏色像素對應的測試圖案;
將所述掩膜版橫向移動一個像素的橫向距離并曝光形成第三顏色像素對應的測試圖案。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
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G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
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