[發明專利]被成像主體內多個低對比度對象的增強顯像的系統與方法

有效

• 申請號: 201611258721.8
• 申請日: 2016-12-30
• 公開（公告）號: CN107019523B
• 公開（公告）日: 2022-08-02
• 發明（設計）人: R.維蘭;M.卡扎拉斯;L.拉穆斯;S.阿梅洛
• 申請（專利權）人: 通用電氣公司
• 主分類號: A61B6/12
• 分類號: A61B6/12
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 姜冰;劉春元

1.一種用于增強被成像主體（20）內多個對象（12，14，16，18）的顯像的方法（48），所述方法包括：

采集（50）布置在所述被成像主體（20）中且被多個引導線（16，18）所支持的所述多個對象（12，14，16，18）的多個圖像（38）；

至少部分地基于布置在所述多個圖像（38）中的多個界標（16，18，104，106，108，110）來生成（52）復合變形場（54），所述復合變形場（54）對由所述多個引導線的至少兩個或更多引導線（16，18）在所述多個對象（12，14，16，18）上誘發的變形進行建模；以及

至少部分地基于所述復合變形場（54）來生成（56）合成圖像（46，58），

其中至少部分地基于所述多個界標（16，18，104，106，108，110）來生成（52）所述復合變形場（54）包括：

在所述多個圖像（38）的第一圖像（62）中，識別（60）所述多個界標的第一界標（16）的第一位置（64）以及所述多個界標的第二界標（18）的第一位置（66）；

在所述多個圖像（38）的第二圖像（70）中，識別（68）所述第一界標（16）的第二位置（72）以及所述第二界標（18）的第二位置（74）；

至少部分地基于所述第一界標（16）的所述第一（64）和所述第二（72）位置，生成（76）第一變形場（78）；以及

至少部分地基于所述第二界標（18）的所述第一（66）和所述第二（74）位置，生成（80）第二變形場（82）。

2.如權利要求1所述的方法（48），其中至少部分地基于所述多個界標（16，18，104，106，108，110）來生成（52）所述復合變形場（54）進一步包括：

對所述第一（78）和所述第二（82）變形場進行加權（90）。

3.如權利要求2所述的方法（48），其中對所述第一（78）和所述第二（82）變形場進行加權（90）包括：

在所述第一（78）和所述第二（82）變形場之間公共的至少一個點（84，86）處對所述第一（78）和所述第二（82）變形場中的每一個指派權重，對于所述第一（78）和所述第二（82）變形場兩者所指派的權重分別至少部分地基于與所述第一（16）和所述第二（18）界標相關的所述至少一個點（84，86）的位點。

4.如權利要求3所述的方法（48），其中對于所述第一（78）和所述第二（82）變形場兩者所指派的權重與從所述至少一個點（84，86）到所述第一（16）和所述第二（18）界標中的至少一個的距離成反比。

5.如權利要求1所述的方法（48），其中所述第一（16）和所述第二（18）界標中的至少一個是標記對（104，106，108，110）。

6.如權利要求1所述的方法（48），其中所述第一（16）和所述第二（18）界標中的至少一個是所述多個引導線的引導線（16，18）。

7.如權利要求6所述的方法（48），其中標記對（100，102）被布置在該引導線（96）上，位于被該引導線（96）支持的所述多個對象的至少一個對象（104）的對側上，且

在所述多個圖像（38）的所述第一圖像（62）中，識別（60）所述多個界標的所述第一界標（16）的所述第一位置（64）以及所述多個界標的所述第二界標（18）的所述第一位置（66）進一步包括：

將該引導線（96）建模為相交于該標記對（100，102）的一個或更多曲線（92）。

8.如權利要求1所述的方法（48），其中所述合成圖像（46，58）是三維的。