[發明專利]一種堿金屬鎢青銅薄膜的制備方法在審
| 申請號： | 201611257611.X | 申請日： | 2016-12-30 |
| 公開（公告）號： | CN108265263A | 公開（公告）日： | 2018-07-10 |
| 發明（設計）人： | 金平實;辛云川;包山虎;李榮;曹遜 | 申請（專利權）人： | 中國科學院上海硅酸鹽研究所 |
| 主分類號： | C23C14/08 | 分類號： | C23C14/08;C23C14/58 |
| 代理公司： | 上海瀚橋專利代理事務所(普通合伙) 31261 | 代理人： | 鄭優麗;熊子君 |
| 地址： | 200050 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 鎢青銅 堿金屬 堿金屬玻璃 薄膜 亞化學計量比 氧化鎢薄膜 真空環境 制備 退火 非氧化性氣氛 熱擴散效應 玻璃 表面沉積 高溫退火 氧化鎢層 直接沉積 | ||
【權利要求書】：
1.一種堿金屬鎢青銅薄膜制備方法，其特征在于，在含堿金屬玻璃表面沉積亞化學計量比的氧化鎢薄膜后，于非氧化性氣氛或真空環境中在350-750℃退火，得到所述堿金屬鎢青銅薄膜；所述含堿金屬玻璃為包含有Na或/和K的玻璃。
2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述亞化學計量比的氧化鎢薄膜的化學式為WO3-x，其中0＜x＜1。
3.根據權利要求1或2所述的制備方法，其特征在于，所述亞化學計量比的氧化鎢薄膜的厚度大于10 nm。
4.根據權利要求1-3中任一項所述的制備方法，其特征在于，所述退火的時間為1～60分鐘。
5.根據權利要求1-4中任一項所述的制備方法，其特征在于，所述非氧化性氣氛的壓強為大氣壓，所述真空的壓強＜1000Pa。
6.根據權利要求1-5中任一項所述的制備方法，其特征在于，所述亞化學計量比的氧化鎢薄膜的制備方法為磁控濺射技術、熱蒸發沉積技術或等離子沉積技術。
7.根據權利要求6所述的制備方法，其特征在于，磁控濺射技術制備亞化學計量比的氧化鎢薄膜包括：選用金屬鎢靶為濺射靶材，采用氬氧混合氣作為工作反應氣體，其中氧氣比例為5%～10%，壓力為0.2～2.0Pa之間，濺射時功率為1～3w/cm2。
8.一種根據權利要求1-7中任一項所述的制備方法制備的堿金屬鎢青銅薄膜。
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