[發明專利]陣列基板、液晶顯示面板及陣列基板制造方法有效
| 申請號: | 201611254564.3 | 申請日: | 2016-12-29 |
| 公開(公告)號: | CN106527004B | 公開(公告)日: | 2019-07-05 |
| 發明(設計)人: | 夏青;柴立 | 申請(專利權)人: | 深圳市華星光電技術有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1362 | 分類號: | G02F1/1362;G02F1/1343 |
| 代理公司: | 廣州三環專利商標代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝傳鑫;熊永強 |
| 地址: | 518132 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 第二金屬層 陣列基板 絕緣層 像素電極 鈍化層 液晶顯示面板 漏極 第一金屬層 溝道蝕刻 靜電擊穿 連接像素 源極連接 制作過程 數據線 電極 溝道 基板 凸起 小丘 源極 制程 覆蓋 制作 制造 | ||
1.一種陣列基板,其特征在于,包括形成于基板的第一金屬層、位于所述第一金屬層上的絕緣層、位于絕緣層上的TFT開關、位于所述絕緣層上的與TFT開關的漏極連接像素電極、覆蓋像素電極的第一鈍化層及位于所述第一鈍化層上的第二金屬層;所述第一鈍化層上設有過孔,所述第二金屬層通過所述過孔與所述TFT開關的源極連接;所述像素電極、TFT開關的源極和漏極在ITO材料層形成。
2.如權利要求1所述的一種陣列基板,其特征在于,所述第一金屬層與第二金屬層交叉設置,所述過孔位于所述第一金屬層與第二金屬層交叉位置。
3.如權利要求1所述的一種陣列基板,其特征在于,所述第一金屬層為掃描線,所述第二金屬層為數據線。
4.如權利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述第二金屬層上覆蓋有第二鈍化層。
5.如權利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述第二金屬層為鋁、鉬鋁合金制成。
6.如權利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述像素電極為透明導電材料制成。
7.一種液晶顯示面板,其特征在于,所述液晶顯示面板包括如權利要求1-6任一項所述陣列基板、彩膜基板及夾持于所述陣列基板與彩膜基板之間的液晶層,所述陣列基板包括形成于基板的第一金屬層、絕緣層、TFT開關、與所述TFT漏極連接的像素電極、第一鈍化層及第二金屬層,所述第一金屬層與第二金屬層交叉設置且絕緣,所述第一鈍化層上設有過孔,所述過孔位于所述第一金屬層與第二金屬層交叉位置,所述第二金屬層通過所述過孔與所述TFT開關的源極連接。
8.如權利要求7所述的液晶顯示面板,其特征在于,所述第一金屬層為掃描線,所述第二金屬層為數據線。
9.一種陣列基板制造方法,其特征在于,包括,在基板上依次形成柵極、絕緣層及氧化物半導體層;
在所述氧化物導體層及所述絕緣層上形成ITO材料層;
圖案化所述ITO材料層形成源極、漏極及與漏極連接的像素電極;其中源極與漏極之間形成溝道;
在所述源極、漏極及像素電極上形成具有過孔的第一鈍化層;
形成覆蓋所述第一鈍化層的金屬層,并且該金屬層通過所述過孔與所述源極連接。
10.如權利要求9所述的陣列基板制造方法,其特征在于,所述在所述源極、漏極及像素電極上形成具有過孔的第一鈍化層的步驟通過圖案化構圖工藝形成。
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