[發明專利]定位數字水印的方法及裝置有效
| 申請號: | 201611254459.X | 申請日: | 2016-12-30 |
| 公開(公告)號: | CN108269220B | 公開(公告)日: | 2021-07-16 |
| 發明(設計)人: | 陳良生;李天白 | 申請(專利權)人: | 北京思源理想控股集團有限公司 |
| 主分類號: | G06T1/00 | 分類號: | G06T1/00;G06T7/73 |
| 代理公司: | 北京三高永信知識產權代理有限責任公司 11138 | 代理人: | 江崇玉 |
| 地址: | 102300 北京市門頭*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 定位 數字 水印 方法 裝置 | ||
1.一種定位數字水印的方法,其特征在于,所述方法包括:
獲取n張圖像;其中,所述n張圖像是具有相同的水印和分辨率,且所述水印在所述n張圖像中的位置相同的不同圖像,n為大于1的整數;
對于所述n張圖像中的目標圖像,獲取所述目標圖像中的每一個像素點對應的相似度;其中,所述目標圖像中第i行第j列的像素點對應的相似度是指所述目標圖像中第i行第j列的像素點與其它n-1張圖像中第i行第j列的像素點的相似度;
根據所述目標圖像中的每一個像素點對應的相似度,確定所述目標圖像中的候選水印像素點;其中,所述候選水印像素點是指相似度大于第一閾值的像素點;
根據所述候選水印像素點在所述目標圖像中的分布特征,確定所述目標圖像中的目標處理區域,所述目標處理區域中的候選水印像素點形成候選水印區域;
對所述候選水印區域進行形態學處理,得到處理后的候選水印區域;
根據所述處理后的候選水印區域確定第一待處理區域;其中,所述第一待處理區域包括:所述處理后的候選水印區域中的每一個像素點,以及,所述處理后的候選水印區域中的每一個像素點的第一鄰域像素點,一個像素點的第一鄰域像素點是指以所述像素點為中心的第一窗口中除所述像素點之外的其它像素點,所述第一窗口的長為a,所述第一窗口的寬為b,且a、b均大于或等于3;
獲取所述第一待處理區域中的每一個像素點對應的相似度;
根據所述第一待處理區域中的每一個像素點對應的相似度,確定絕對水印區域;其中,所述絕對水印區域包括相似度大于第二閾值的像素點,所述第二閾值大于所述第一閾值;
根據所述絕對水印區域確定第二待處理區域;其中,所述第二待處理區域包括:所述絕對水印區域中的每一個像素點,以及,所述絕對水印區域中的每一個像素點的第二鄰域像素點,一個像素點的第二鄰域像素點是指以所述像素點為中心的第二窗口中除所述像素點之外的其它像素點,所述第二窗口的長為c,所述第二窗口的寬為d,且c、d均大于或等于3;
獲取所述第二待處理區域中的每一個像素點對應的相似度;
根據所述第二待處理區域中的每一個像素點對應的相似度,確定所述目標圖像中的水印像素點;其中,所述水印像素點是指相似度大于第三閾值的像素點,所述第三閾值大于所述第一閾值且小于所述第二閾值。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述對所述候選水印區域進行形態學處理,得到處理后的候選水印區域,包括:
對所述候選水印區域進行腐蝕處理,得到腐蝕處理后的候選水印區域;
對所述腐蝕處理后的候選水印區域進行膨脹處理,得到所述處理后的候選水印區域。
3.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述根據所述候選水印像素點在所述目標圖像中的分布特征,確定所述目標圖像中的目標處理區域,包括:
獲取所述候選水印像素點在所述目標圖像的長度方向和寬度方向上的分布數量;
獲取所述分布數量符合預設條件的像素點所圍合形成的矩形區域;
將所述矩形區域的長和寬增加預設倍數,得到所述目標圖像中的目標處理區域。
4.根據權利要求1至3任一項所述的方法,其特征在于,所述方法還包括:
若所述目標圖像中的水印像素點的類型為線條水印,則采用基于快速行進法FMM的快速圖像修復算法對所述目標圖像中的水印像素點進行修復,得到去除水印的目標圖像;
若所述目標圖像中的水印像素點的類型為塊狀水印,則采用改進的Criminisi圖像修復算法對所述目標圖像中的水印像素點進行修復,得到去除水印的目標圖像。
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