[發明專利]覆膜支架在審
| 申請號: | 201611248671.5 | 申請日: | 2016-12-29 |
| 公開(公告)號: | CN108245279A | 公開(公告)日: | 2018-07-06 |
| 發明(設計)人: | 肖本好;劉彩萍 | 申請(專利權)人: | 先健科技(深圳)有限公司 |
| 主分類號: | A61F2/07 | 分類號: | A61F2/07 |
| 代理公司: | 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人: | 何平 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市南山區*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 覆膜支架 覆膜 分支支架 支架本體 最大程度地 管腔結構 兩端開口 內部凹陷 發生率 包覆 減小 容置 收容 貫通 | ||
1.一種覆膜支架,包括支架本體和包覆于所述支架本體表面的覆膜,所述覆膜為兩端開口的管腔結構,其特征在于,所述覆膜朝向所述覆膜支架內部凹陷形成有至少一個用于容置分支支架的凹槽,所述凹槽貫通所述覆膜支架的至少一端。
2.根據權利要求1所述的覆膜支架,其特征在于,所述凹槽僅貫通所述覆膜支架一端。
3.根據權利要求1所述的覆膜支架,其特征在于,所述凹槽橫截面上任意兩點之間的最大距離為6-18mm。
4.根據權利要求1所述的覆膜支架,其特征在于,所述凹槽包括貫通所述覆膜支架的近端并沿所述覆膜支架的軸向延伸的第一曲面以及與所述第一曲面相連的第二曲面,所述第一曲面和所述第二曲面在平行于所述覆膜支架軸線的平面上的正投影分別呈矩形和月牙形。
5.根據權利要求4所述的覆膜支架,其特征在于,所述第一曲面為圓柱面,所述圓柱面的橫截面形狀與所述側壁的橫截面形狀內切。
6.根據權利要求5所述的覆膜支架,其特征在于,所述圓柱面的橫截面形狀為優弧。
7.根據權利要求4所述的覆膜支架,其特征在于,所述第一曲面包括兩個相對設置且朝所述覆膜支架內部延伸的平面以及連接兩所述平面邊緣的柱面。
8.根據權利要求1所述的覆膜支架,其特征在于,所述柱面包括半圓柱面或半橢圓柱面。
9.根據權利要求8所述的覆膜支架,其特征在于,所述半圓柱面或所述半橢圓柱面的母線與所述覆膜支架的軸線呈銳角夾角。
10.根據權利要求9所述的覆膜支架,其特征在于,所述銳角夾角的角度在0°到15°之間。
11.根據權利要求4所述的覆膜支架,其特征在于,所述第一曲面包括兩個相對設置且朝所述覆膜支架內部豎直延伸的第一平面以及連接兩所述平面邊緣的若干個首尾相連的第二平面。
12.根據權利要求4所述的覆膜支架,其特征在于,所述覆膜具有多個所述凹槽,多個所述凹槽沿所述覆膜支架的周向間隔布置。
13.根據權利要求12所述的覆膜支架,其特征在于,多個所述凹槽的第二曲面相互連通為一個整體。
14.根據權利要求4-13任一項所述的覆膜支架,其特征在于,所述支架本體包括多個沿所述覆膜支架的軸線排布的波圈,所述波圈包括至少一個用于支撐所述第一曲面并與所述第一曲面位置對應的第一波圈,以及至少一個用于支撐所述第二曲面并與所述第二曲面位置對應的第二波圈,所述第二波圈的波形至少有一部分落在所述第二曲面的橫截面上。
15.根據權利要求14所述的覆膜支架,其特征在于,所述支架本體還包括多個自所述凹槽的遠端沿所述覆膜支架的軸向排布的第三波圈,所述第一波圈和所述第二波圈的波長均小于所述第三波圈的波長。
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