[發明專利]研磨顆粒、固定研磨制品以及形成該固定研磨制品的方法在審
| 申請號: | 201611246800.7 | 申請日: | 2016-12-29 |
| 公開(公告)號: | CN108251056A | 公開(公告)日: | 2018-07-06 |
| 發明(設計)人: | 聶品旭 | 申請(專利權)人: | 圣戈本陶瓷及塑料股份有限公司 |
| 主分類號: | C09K3/14 | 分類號: | C09K3/14 |
| 代理公司: | 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287 | 代理人: | 章蕾 |
| 地址: | 美國馬*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 研磨制品 研磨顆粒 非晶形材料 覆蓋 | ||
1.一種研磨顆粒,其包含:
本體,和
覆蓋所述本體的涂層;
其中所述涂層包含
非晶形材料,和
含在所述非晶形材料內的至少一種填料。
2.根據權利要求1所述的研磨顆粒,其中所述至少一種填料包含不同于所述非晶形材料的至少一個相。
3.根據權利要求1所述的研磨顆粒,其中所述本體包含氧化鋁和氧化鋯。
4.根據權利要求1所述的研磨顆粒,其中所述本體基本上由氧化鋁和氧化鋯組成。
5.根據權利要求1所述的研磨顆粒,其中所述本體基本上由氧化鋁組成。
6.根據權利要求1所述的研磨顆粒,其中所述本體包含不大于所述本體的總重量的75wt%、或不大于70wt%、或不大于65wt%、或不大于60wt%、或不大于59wt%、或不大于58wt%、或不大于57wt%、或不大于56wt%、或不大于55wt%、或不大于54wt%、或不大于53wt%、或不大于52wt%、或不大于51wt%、或不大于50wt%、或不大于49wt%、或不大于48wt%、或不大于47wt%、或不大于46wt%、或不大于45wt%、或不大于44wt%、或不大于43wt%、或不大于42wt%、或不大于40wt%的氧化鋁。
7.根據權利要求1所述的研磨顆粒,其中所述本體包含所述本體的總重量的至少35wt%、或至少40wt%、或至少42wt%、或至少43wt%、或至少44wt%、或至少45wt%、或至少46wt%、或至少47wt%、或至少48wt%、或至少49wt%、或至少50wt%、或至少51wt%、或至少52wt%、或至少53wt%、或至少54wt%、或至少55wt%、或至少56wt%、或至少57wt%、或至少58wt%、或至少59wt%、或至少60wt%、或至少65wt%、或至少70wt%的氧化鋁。
8.根據權利要求1所述的研磨顆粒,其中所述本體包含不大于所述本體的總重量的60wt%、或不大于50wt%、或不大于49wt%、或不大于48wt%、或不大于47wt%、或不大于46wt%、或不大于45wt%、或不大于44wt%、或不大于43wt%、或不大于42wt%、或不大于41wt%、或不大于40wt%、或不大于39wt%、或不大于38wt%、或不大于37wt%、或不大于36wt%、或不大于35wt%、或不大于34wt%、或不大于33wt%、或不大于32wt%、或不大于31wt%、或不大于30wt%的氧化鋯。
9.根據權利要求1所述的研磨顆粒,其中所述本體包含所述本體的總重量的至少20wt%、或至少30wt%、或至少31wt%、或至少32wt%、或至少33wt%、或至少34wt%、或至少35wt%、或至少36wt%、或至少37wt%、或至少38wt%、或至少39wt%、或至少40wt%、或至少41wt%、或至少42wt%、或至少43wt%、或至少44wt%、或至少45wt%、或至少46wt%、或至少47wt%、或至少48wt%、或至少49wt%、或至少50wt%的氧化鋯。
10.根據權利要求1所述的研磨顆粒,所述本體基本上不含氮化物、硼化物或其任何組合。
11.根據權利要求1所述的研磨顆粒,其中所述本體基本上不含金屬、金屬合金或其任何組合。
12.根據權利要求1所述的研磨顆粒,其中所述本體包含不大于40000微米或不大于30000微米或不大于20000微米或不大于10000微米或不大于5000微米或不大于4000微米或不大于3000微米或不大于2000微米或不大于1000微米或不大于500微米或不大于200微米或不大于100微米或不大于80微米或不大于50微米或不大于40微米或不大于20微米或不大于10微米的中值粒徑(D50)。
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