[發(fā)明專利]涂布模頭擦拭機構(gòu)和涂布機以及擦拭涂布模頭的方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201611245430.5
• 申請日: 2016-12-29
• 公開（公告）號: CN106733463A
• 公開（公告）日: 2017-05-31
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 羅才坤;向勇;彭曉麗;賀金味;張虎
• 申請（專利權(quán)）人: 成都國珈星際固態(tài)鋰電科技有限公司
• 主分類號: B05C5/02
• 分類號: B05C5/02;B05B15/02
• 代理公司: 成都玖和知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)51238
• 代理人: 黎祖琴

1.一種涂布模頭擦拭機構(gòu)，其用于擦拭用于間隙狹縫涂布的涂布模頭，該涂布模頭包括出涂布液的模唇，其特征在于：該涂布模頭擦拭機構(gòu)包括可轉(zhuǎn)動的滾輪，涂布模頭停止涂布時，所述滾輪和涂布模頭接觸，滾輪轉(zhuǎn)動從而對涂布模頭的模唇進行擦拭，使殘留在涂布模頭模唇外表面的涂布液溶解。

2.如權(quán)利要求1所述的涂布模頭擦拭機構(gòu)，其特征在于：所述涂布模頭擦拭機構(gòu)還包括裝有擦拭液的液槽，所述滾輪位于所述液槽上方并可相對液槽移動以將擦拭液吸附于滾輪上。

3.如權(quán)利要求2所述的涂布模頭擦拭機構(gòu)，其特征在于：所述滾輪包括吸附層和硬質(zhì)層，所述吸附層環(huán)繞于硬質(zhì)層上，所述吸附層將擦拭液吸附，所述滾輪轉(zhuǎn)動時，吸附擦拭液的吸附層對涂布模頭的模唇擦試。

4.如權(quán)利要求1-3任一項所述的涂布模頭擦拭機構(gòu)，其特征在于：所述滾輪轉(zhuǎn)動對涂布模頭擦拭時，所述吸附層的外表面和涂布模頭的模唇外表面相切。

5.如權(quán)利要求3所述的涂布模頭擦拭機構(gòu)，其特征在于：所述滾輪轉(zhuǎn)動對涂布模頭擦拭時，所述涂布模頭擠壓吸附層導(dǎo)致被擠壓部分吸附層凹陷，該凹陷的深度為1-20mm。

6.如權(quán)利要求3所述的涂布模頭擦拭機構(gòu)，其特征在于：所述吸附層的表面沿徑向環(huán)設(shè)有凹槽，所述凹槽形狀和涂布模頭相匹配，所述滾輪轉(zhuǎn)動對涂布模頭擦拭時，所述涂布模頭位于凹槽內(nèi)。

7.如權(quán)利要求1所述的涂布模頭擦拭機構(gòu)，其特征在于：所述滾輪順時針和逆時針交替轉(zhuǎn)動。

8.一種涂布機，其特征在于：所述涂布機采用了如權(quán)利要求1-3，5-7任一項所述的涂布模頭擦拭機構(gòu)。

9.一種擦拭涂布模頭的方法，其特征在于，步驟包括：在涂布模頭停止涂布時，將所述涂布模頭的模唇外表面和一滾輪的外表面接觸，或涂布模頭擠壓滾輪使?jié)L輪表面形變；旋轉(zhuǎn)所述滾輪以擦拭涂布模頭的模唇外表面。

10.如權(quán)利要求9所述的擦拭涂布模頭的方法，其特征在于：旋轉(zhuǎn)所述滾輪以擦拭涂布模頭的模唇外表面時，所述滾輪的轉(zhuǎn)速為0.5-5r/min。