[發明專利]一種用于均勻涂覆膠的裝置有效
| 申請號: | 201611244565.X | 申請日: | 2016-12-29 |
| 公開(公告)號: | CN106733462B | 公開(公告)日: | 2018-11-27 |
| 發明(設計)人: | 周志近 | 申請(專利權)人: | 南京信息職業技術學院 |
| 主分類號: | B05C5/02 | 分類號: | B05C5/02;B05C11/08;B05C11/10;B05C15/00 |
| 代理公司: | 南京天翼專利代理有限責任公司 32112 | 代理人: | 涂春春 |
| 地址: | 210013 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 均勻 涂覆膠 裝置 | ||
本發明公開了一種用于均勻涂覆膠的裝置,解決的技術問題:針對背景技術中提及的現有昂貴的自動化程度很高的勻膠機無法滿足使用量不大的單位的技術缺陷。采取的技術方案,一種用于均勻涂覆膠的裝置,包括機架臺,裝置工作臺面,至少一個的硅片承載裝置、至少一個的集膠槽、驅動機構、抽真空機構和一路出氣至少一路進氣的氣體轉接器,氣體轉接器的進氣氣路的數量等于硅片承載裝置的數量。本發明的有益效果是:本用于均勻涂覆膠的裝置,結構簡單,成本低,精度高,產量一般,很是適合使用率不高的單位使用。
技術領域
本發明涉及一種用于均勻涂覆膠的裝置。
背景技術
目前,大型企業制造半導體器件中用于涂覆膠的設備自動化程度非常的高,生產效率高,價格也是極其的貴,這對于小型企業、研究院、高等學校等使用量不大的單位來說,購買昂貴的自動化程度很高的勻膠機極其不合適。
發明內容
本發明所要解決的技術問題是,針對背景技術中提及的現有昂貴的自動化程度很高的勻膠機無法滿足使用量不大的單位的技術缺陷。
本發明的目的是,提出一種結構簡單,精度高,產量一般,很是適合使用率不高的單位使用的用于均勻涂覆膠的裝置。
為解決上述問題,本發明所采取的技術方案是:一種用于均勻涂覆膠的裝置,包括裝置工作臺面,在裝置工作臺面的下方通過支柱懸掛機架臺,裝置工作臺面上設置硅片承載裝置和集膠槽,硅片承載裝置位于集膠槽內部,在機架臺與裝置工作臺面之間設置用于驅動硅片承載裝置旋轉的驅動機構,在地面上放置有用于使得硅片吸附在硅片承載裝置上的抽真空機構;
抽真空機構包括機座,在機座上設置真空泵和電機,電機軸與真空泵泵軸之間通過皮帶輪與皮帶連接,真空泵的出氣口連通外部大氣,真空泵的進氣口連通硅片承載裝置;
硅片承載裝置包括底托、上蓋和圓管連接件,底托和上蓋之間構成空氣腔,硅片放置在上蓋表面上且上蓋表面上設置多個密集氣孔,氣孔連通空氣腔,圓管連接件設置在底托上且圓管連接件一端連通空氣腔,另一端連接排氣鋼管,排氣鋼管通過氣管連通真空泵的進氣口;
驅動機構包括設置在機架臺上的伺服電機且伺服電機的輸出軸豎直向上設置,在伺服電機的輸出軸上水平設置有主動皮帶輪盤,主動皮帶輪盤上套裝主動皮帶,在圓管連接件上套裝從動皮帶輪盤,在從動皮帶輪盤上套裝從動皮帶,主動皮帶與從動皮帶位于同一平面內且緊密接觸。
本發明還提出一種用于均勻涂覆膠的裝置,包括裝置工作臺面,在裝置工作臺面的下方通過支柱懸掛機架臺,裝置工作臺面上設置至少一個的硅片承載裝置和至少一個的集膠槽,硅片承載裝置位于集膠槽內部,在機架臺與裝置工作臺面之間設置有用于驅動硅片承載裝置旋轉的驅動機構,在地面上放置有用于使得硅片吸附在硅片承載裝置上的抽真空機構,在抽真空機構與硅片承載裝置之間設置用于給所有硅片承載裝置上的硅片提供吸附力的一路出氣至少一路進氣的氣體轉接器,氣體轉接器的進氣氣路的數量等于硅片承載裝置的數量;
抽真空機構包括機座,在機座上設置真空泵和電機,電機軸與真空泵泵軸之間通過皮帶輪與皮帶連接,真空泵的出氣口連通外部大氣,真空泵的進氣口連通氣體轉接器的出氣口;
硅片承載裝置包括底托、上蓋和圓管連接件,底托和上蓋之間構成空氣腔,硅片放置在上蓋表面上且上蓋表面上設置多個密集氣孔,氣孔連通空氣腔,圓管連接件設置在底托上且圓管連接件一端連通空氣腔,另一端連接排氣鋼管,排氣鋼管通過氣管連通氣體轉接器的進氣口;
驅動機構包括設置在機架臺上的伺服電機且伺服電機的輸出軸豎直向上設置,在伺服電機的輸出軸上水平設置有主動皮帶輪盤,主動皮帶輪盤上套裝主動皮帶,在所有的圓管連接件上均套裝從動皮帶輪盤,在從動皮帶輪盤上套裝從動皮帶,主動皮帶與從動皮帶位于同一平面內且緊密接觸。
本發明技術方案中的氣體轉接器,為現有技術中的應用于本技術領域內的常規技術產品,可在市場直接購買,具體的結構本實用新型不作詳細的說明。
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