[發明專利]一種多孔氧化鋁膜層及其制備方法在審
| 申請號： | 201611243729.7 | 申請日： | 2016-12-29 |
| 公開（公告）號： | CN108251877A | 公開（公告）日： | 2018-07-06 |
| 發明（設計）人： | 李帥;張超;呂琴麗;何迪;張華;王樹茂;劉曉鵬;蔣利軍 | 申請（專利權）人： | 北京有色金屬研究總院 |
| 主分類號： | C25D11/12 | 分類號： | C25D11/12;C25D11/08;C25F3/20;C25D11/16 |
| 代理公司： | 北京北新智誠知識產權代理有限公司 11100 | 代理人： | 劉秀青;熊國裕 |
| 地址： | 100088 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 多孔氧化鋁膜 鋁膜 制備 膜層 退火 多孔金屬基材 物理氣相沉積 電化學拋光 陽極氧化法 表面沉積 表面清洗 退火處理 可控的 通孔 垂直 | ||
1.一種多孔氧化鋁膜層，其特征在于，該多孔氧化鋁膜層的孔徑范圍為5-100nm，厚度為5-100μm。
2.一種權利要求1所述的多孔氧化鋁膜層的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
(1)采用物理氣相沉積方法在多孔金屬基材表面沉積鋁膜；
(2)對鋁膜進行氣氛退火處理；
(3)對退火后的鋁膜進行表面清洗和電化學拋光；
(4)利用二次陽極氧化法對鋁膜進行處理，獲得多孔氧化鋁膜。
3.根據權利要求2所述的多孔氧化鋁膜層的制備方法，其特征在于，所述多孔金屬基材的材質為304不銹鋼、316不銹鋼、Inconel合金、NiCrAl合金、Hastalloy合金、鈦、鈦基合金、鎳、鎳基合金中的一種。
4.根據權利要求2所述的多孔氧化鋁膜層的制備方法，其特征在于，所述步驟(1)中，物理氣相沉積方法為射頻磁控濺射、中頻磁控濺射、直流磁控濺射、真空電阻蒸鍍、電子束蒸鍍、離子束濺射中的一種。
5.根據權利要求2所述的多孔氧化鋁膜層的制備方法，其特征在于，所述步驟(2)中，鋁膜的退火處理氣氛為真空、還原、惰性氣氛，退火溫度為300-500℃，退火時間為1-10小時。
6.根據權利要求5所述的多孔氧化鋁膜層的制備方法，其特征在于，所述退火時間為3-8小時。
7.根據權利要求2所述的多孔氧化鋁膜層的制備方法，其特征在于，所述步驟(3)中，采用高氯酸和無水乙醇的混合溶液對鋁膜進行拋光，混合溶液中高氯酸與無水乙醇的體積配比為1∶6-1∶3，拋光電壓為10-20V，時間為1-5分鐘，溫度為0-10℃。
8.根據權利要求2所述的多孔氧化鋁膜層的制備方法，其特征在于，所述步驟(4)中，一次陽極氧化電解液選自濃度為2-20％的硫酸溶液、濃度為10-30％的磷酸溶液、濃度為1-5％的草酸溶液中的一種，氧化時間為1-40小時。
9.根據權利要求2所述的多孔氧化鋁膜層的制備方法，其特征在于，所述步驟(4)中，一次陽極氧化法對鋁膜處理后，采用磷酸和鉻酸的混合溶液中除去氧化層，磷酸濃度為5-10％，鉻酸濃度為1-5％。
10.根據權利要求2所述的多孔氧化鋁膜層的制備方法，其特征在于，所述步驟(4)中，二次陽極氧化電解液選自濃度為2-20％的硫酸溶液、濃度為10-30％的磷酸溶液、濃度為1-5％的草酸溶液中的一種，氧化時間為1-40小時。
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