[發明專利]一種OLED陰極隔離柱的制備方法

在審

• 申請號: 201611243559.2
• 申請日: 2016-12-29
• 公開（公告）號: CN106653816A
• 公開（公告）日: 2017-05-10
• 發明（設計）人: 張穩穩;嚴學文;董軍;高偉;李冬冬
• 申請（專利權）人: 西安郵電大學
• 主分類號: H01L27/32
• 分類號: H01L27/32;H01L51/56;H01L51/52
• 代理公司: 北京輕創知識產權代理有限公司11212
• 代理人: 王新生

技術領域

本發明涉及一種OLED陰極隔離柱技術，特別是一種OLED陰極隔離柱的制備方法。

背景技術

OLED(Organic Light Emitting Display)，有機發光顯示器件是指有機半導體材料和發光材料在電場驅動下，通過載流子注入和復合導致發光的現象。OLED具有主動發光，無視角問題；重量輕，厚度小；高亮度，高發光效率；發光材料豐富，易實現彩色顯示；響應速度快，動態畫面質量高；使用溫度范圍廣；可實現柔軟顯示；工藝簡單，成本低；抗震能力強等一系列的優點，逐步成為最有潛力的一種顯示器件，因此它被專家稱為未來的理想顯示器，在各種領域有著廣泛的應用。

目前國內外許多公司、科研機構都投入大量人力物力進行研究。有機電致發光器件通常由第一電極(透明陽極)、沉積在第一電極上的發光介質、沉積在發光介質上的第二電極(陰極)構成。由無源OLED器件的結構決定了它的驅動方式是二維矩陣尋址。無源矩陣顯示是實現有機發光顯示的一種簡單方法。在有機發光無源矩陣顯示器件中需要實現陰極的圖案化，一般采用具有倒梯形或者T形截面的條紋結構作為隔離柱實現陰極加工過程中的圖案化。目前在硅片或其它襯底上制作金屬圖形都是先通過涂膠、曝光、顯影等光刻出圖形后再通過蒸鍍，超聲剝離等實現金屬圖形的制備。

發明內容

有鑒于此，本發明的主要目的是提供一種OLED陰極隔離柱的制備方法。

具體的方案為：

一種OLED陰極隔離柱的制備方法，包括如下步驟：

步驟1)ITO玻片清洗；

步驟2)在步驟1)上甩兩層聚酰亞胺；

步驟3)在聚酰亞胺上濺射一層450～550nm厚的二氧化硅；

步驟4)在二氧化硅上旋凃上負性光刻KMP-BN308膠；

步驟5)步驟4)完后在光刻機下曝光；

步驟6)將曝完光的基片進行顯影和漂洗；

步驟7)漂洗完的基片放到真空干燥箱在溫度為100～120℃的條件下進行烘烤20～40min；

步驟8)用干法刻蝕或HF濕法刻蝕二氧化硅；

步驟9)刻蝕完二氧化硅后進行聚酰亞胺膜的刻蝕。

進一步地，步驟1)中的ITO玻璃清洗方法為：

步驟①：將ITO玻璃放置650ml的按照質量比為1:1的丙酮和乙醇混合溶液中超聲15min后取出；

步驟②：準備650ml去離子水，將650ml去離子水加3～4滴白毛洗潔精，加熱至70℃；再將步驟①超聲后的ITO玻璃置入超聲10min，取出；

步驟③：準備650ml去離子水，將650ml的去離子水加熱至100℃，將步驟②處理后的ITO玻璃置入沸水煮15min；

步驟④：準備650ml去離子水，將步驟③處理后的ITO玻璃置入超聲5min；

步驟⑤：準備650ml去離子水，將步驟④處理后的ITO玻璃置入超聲5min。

進一步地，步驟2)甩兩層聚酰亞胺的方法為：

步驟①：硅片清洗，在三氯乙烷中煮沸，再在丙酮和異丙醇中煮沸；然后在氮氣流中吹干，130℃下烘烤30分鐘，脫水汽；

步驟②：涂膠，用機械旋轉法涂覆ZKPI膠，其轉數為3000～5000rpm/15-30s，將ZKPI膠均勻涂覆在硅片上

步驟③：預烘，在恒溫烘箱中以溫度為100～120℃烘烤20～40min，

步驟④：涂光刻膠、曝光、顯影，涂光刻膠后，可按正常的光刻工藝進行預烘、曝光、顯影和堅膜；

步驟⑤：ZKPI膠膜刻蝕，采用質量比為0.7～1：100的四甲基氫氧化氨水溶液中刻蝕30s，刻蝕完畢后立即置于質量比為0.5～1.0：100的稀冰醋酸去離子水溶液中10s，然后用去離子水沖洗10min，去除殘余的刻蝕劑和中和劑，隨后烘干；

步驟⑥：去光刻膠，以丙酮或乙酸乙酯為溶劑的剝離劑剝離光刻膠層

步驟⑦：亞胺化，采用階梯升溫法：150℃/60min、180℃/30min、250℃/60min，根據實際情況，可升至300-350℃/30min，使亞胺化完全。

進一步地，步驟4)中光刻KMP-BN308膠工藝為:

步驟①：基片預處理；

步驟②：清洗，焙烘；

步驟③：涂膠，采用旋轉涂布法，

步驟④：前烘，熱板1000℃/60s

步驟⑤：曝光，采用高壓汞燈曝光；

步驟⑥：顯影；