[發明專利]一種對血液中重金屬離子高清除的羧基修飾MOF膜及其制備方法有效
| 申請號: | 201611242144.3 | 申請日: | 2016-12-29 |
| 公開(公告)號: | CN106731894B | 公開(公告)日: | 2019-06-04 |
| 發明(設計)人: | 尹園;高健;柳美華;鄭春柏;魏巍;鄧鵬飏 | 申請(專利權)人: | 中國科學院長春應用化學研究所 |
| 主分類號: | B01D71/26 | 分類號: | B01D71/26;B01D71/18;B01D67/00;C08J7/04;C08J7/18;C08J3/28;C08J7/16;C08G83/00;A61M1/34;C08L23/12;C08L67/02 |
| 代理公司: | 長春菁華專利商標代理事務所(普通合伙) 22210 | 代理人: | 李外 |
| 地址: | 130000 吉林*** | 國省代碼: | 吉林;22 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 血液 重金屬 離子 清除 羧基 修飾 mof 及其 制備 方法 | ||
1.一種對血液中重金屬離子高清除的羧基修飾MOF膜,其特征在于,結構式如式Ⅰ所示:
式Ⅰ中,R為Zr或Fe,代表高分子基底材料;
所述的一種對血液中重金屬離子高清除的羧基修飾MOF膜的制備方法,該方法包括:
步驟一:制備溴取代的羧基修飾MOF材料;
步驟二:對步驟一得到的溴取代的羧基修飾MOF材料中的羧基進行保護,得到羧基保護的MOF;
步驟三:將步驟二得到的羧基保護的MOF和格式試劑反應,得到帶雙鍵的MOF材料;
步驟四:將步驟三得到的帶雙鍵的MOF材料通過預輻射或共輻照方法接枝在高分子基底材料表面,得到羧基修飾MOF膜。
2.根據權利要求1所述的一種對血液中重金屬離子高清除的羧基修飾MOF膜,其特征在于,所述的步驟一制備溴取代的羧基修飾MOF材料方法為:將RClx和2-羧基-5-溴對苯二甲酸溶解在溶劑中,混合均勻后加入反應釜中,在100-125℃下反應18-26h,得到溴取代的羧基修飾MOF材料,所述的R為Zr或Fe,x為3或4。
3.根據權利要求2所述的一種對血液中重金屬離子高清除的羧基修飾MOF膜,其特征在于,所述的RClx和2-羧基-5-溴對苯二甲酸重量份數比為(1-3):1。
4.根據權利要求1所述的一種對血液中重金屬離子高清除的羧基修飾MOF膜,其特征在于,所述的格式試劑為乙烯基氯化鎂、烯丙基氯化鎂或3-丁烯氯化鎂。
5.根據權利要求1所述的一種對血液中重金屬離子高清除的羧基修飾MOF膜,其特征在于,所述的預輻照方法具體為:
(1)、將高分子基底材料放入輻射源中,對高分子基底材料進行預輻照;
(2)、將帶雙鍵的MOF材料配成MOF膠體;
(3)、在反應容器中加入預輻照后的高分子基底材料和MOF膠體,通入氮氣,然后將反應物移入水浴中,在50-60℃下反應5-7h,得到羧基修飾MOF膜。
6.根據權利要求1所述的一種對血液中重金屬離子高清除的羧基修飾MOF膜,其特征在于,所述的共輻照方法具體為:
(1)、將帶雙鍵的MOF材料配成MOF膠體;
(2)、將MOF膠體涂覆在高分子基體材料表面,放入輻射源中,對高分子基體材料表面進行輻照,得到羧基修飾MOF膜。
7.根據權利要求5或6所述的一種對血液中重金屬離子高清除的羧基修飾MOF膜,其特征在于,所述的輻射劑量為5-100kGy,輻射劑量率為0.8-1.5kGy/h。
8.根據權利要求5或6所述的一種對血液中重金屬離子高清除的羧基修飾MOF膜,其特征在于,MOF膠體中MOF的質量分數為10-30%。
9.根據權利要求1所述的一種對血液中重金屬離子高清除的羧基修飾MOF膜,其特征在于,所述的高分子基體材料為聚丙烯膜、聚乙烯膜或聚對苯二甲酸乙二醇酯膜。
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