[發明專利]開放式自屏蔽磁共振成像超導磁體

在審

• 申請號: 201611241821.X
• 申請日: 2016-12-29
• 公開（公告）號: CN106782998A
• 公開（公告）日: 2017-05-31
• 發明（設計）人: 李毅;胡洋;王秋良;朱旭晨
• 申請（專利權）人: 中國科學院電工研究所
• 主分類號: H01F6/06
• 分類號: H01F6/06;G01R33/3815
• 代理公司: 北京科迪生專利代理有限責任公司11251
• 代理人: 關玲

1.一種開放式自屏蔽磁共振成像超導磁體，其特征在于，所述的超導磁體由四對超導線圈組成，四對超導線圈沿z坐標上下布置，關于中心對稱；所述的四對線圈包括一對平面指紋勻場線圈組(1)，一對第一主磁場線圈(2)，一對第二主磁場線圈(3)和一對屏蔽線圈(4)；平面指紋勻場線圈組(1)布置在離中心點最近處，向外依次布置第一主磁場線圈(2)、第二主磁場線圈(3)，屏蔽線圈(4)布置在最外層；第一主磁場線圈一(2)、第二主磁場線圈(3)通正向電流，提供主磁場強度；屏蔽線圈(4)通反向電流，產生與主磁場相反的磁場，以消除磁體對外部空間的雜散磁場；平面指紋勻場線圈組(1)對中心區域的磁場進行補償，以提高磁體在球形區域的磁場均勻度；四對超導線圈置于同一低溫杜瓦中。

2.按照權利要求1所述的開放式自屏蔽磁共振成像超導磁體，其特征在于，所述的平面指紋勻場線圈組(1)包含15組有源勻場線圈，分別為：軸向一階線圈Z1、軸向二階線圈Z2、軸向三階線圈Z3，兩組徑向一階線圈X、Y，四組徑向二階線圈ZX、ZY、X2-Y2、XY，六組徑向三階線圈Z2X、Z2Y、Z(X2-Y2)、ZXY、X3、Y3；所述的平面指紋勻場線圈組(1)的所有各階線圈采用層層疊放的形式置于對稱空間位置中。

3.按照權利要求1所述的開放式自屏蔽磁共振成像超導磁體，其特征在于，根據所述的第一主磁場線圈(2)、第二主磁場線圈(3)與屏蔽線圈(4)的空間幾何位置、尺寸大小及中心區域的磁場強度，確定平面指紋勻場線圈組(1)的各階勻場線圈的勻場強度、超導線規格以及電流大小。

4.按照權利要求1所述的開放式自屏蔽磁共振成像超導磁體，其特征在于，所述的開放式自屏蔽磁共振成像超導磁體最外直徑小于1.4米，上下極最小間距大于0.5米，最大間距大于0.75米，具有最大間距的區域直徑大于1.1米。