[發明專利]掩膜板、曝光機和玻璃基板的曝光方法在審
| 申請號: | 201611238151.6 | 申請日: | 2016-12-28 |
| 公開(公告)號: | CN106773527A | 公開(公告)日: | 2017-05-31 |
| 發明(設計)人: | 周波;李青;王麗紅;鄭權 | 申請(專利權)人: | 東旭科技集團有限公司;東旭集團有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/50 | 分類號: | G03F1/50;G03F7/20;G03F7/22 |
| 代理公司: | 北京英創嘉友知識產權代理事務所(普通合伙)11447 | 代理人: | 桑傳標,陳慶超 |
| 地址: | 100070 北京市豐臺區*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 掩膜板 曝光 玻璃 方法 | ||
技術領域
本公開涉及曝光工藝,具體地,涉及一種掩膜板,具有該掩膜板的曝光機,以及使用該曝光機曝光玻璃基板的曝光方法。
背景技術
顯示器制造工藝的核心在于曝光工藝,即利用紫外線透過稱為“掩膜板”的部件照射玻璃基板表面的光刻膠,使光刻膠性質發生變化。掩膜板通常是一種矩形的平板,其上制造有透光孔,使得紫外線在玻璃基板表面形成刻蝕圖像。隨著技術的進步,玻璃基板和顯示器的尺寸越來越大,同時柔性玻璃技術的發展,使得“卷對卷”技術逐漸普及。在該背景下,當前的曝光工藝主要存在以下問題:
一、隨著玻璃基板尺寸的增大,掩膜板的尺寸也隨之增大,由此導致在掩膜板上加工透光孔的數量和難度增加,不利于節省生產成本。
二、較大尺寸的掩模版在曝光過程中,其邊部光線畸變嚴重,影響顯示器的顯示效果,降低成品良率。
三、當前的曝光方法需要在玻璃基板進入曝光機后停止運動,等待曝光完成后,再將玻璃基板送出曝光機,這樣間歇停頓式的加工方法嚴重制約著生產效率。
發明內容
本公開的目的是提供一種掩膜板,具有該掩膜板的曝光機,以及使用該曝光機曝光玻璃基板的方法。該掩膜板制作難度低,節省成本,并且不易導致光線畸變,能夠保證顯示器的成品良率。
為了實現上述目的,本公開提供一種曝光機,用于制作顯示器,所述曝光機包括傳送裝置、掩膜板和光源,所述傳送裝置傳送玻璃基板經過所述掩膜板,所述光源通過開設在所述掩膜板上的透光孔照射所述玻璃基板,所述掩膜板形成為可繞軸線回轉的筒狀結構,該筒狀結構的軸線沿所述玻璃基板的寬度方向延伸,所述光源固定地設置在所述掩膜板的空腔內,所述曝光機還包括用于帶動所述掩膜板回轉的驅動裝置。
可選地,所述光源為線形光源,該線性光源的延伸方向與所述掩膜板的軸線平行。
可選地,所述透光孔的尺寸與所述顯示器的顯示單元的尺寸相同,所述曝光機還包括控制系統,以保持曝光時所述掩膜板的線速度與所述傳送裝置的運動速度一致。
可選地,所述控制系統包括用于檢測所述傳送裝置的運動速度并向外發送信號的傳感器,與所述傳感器電連接以接收所述信號的控制器,所述控制器與所述驅動裝置電連接,以通過所述驅動裝置調節所述掩膜板的線速度。
可選地,所述傳感器為編碼器。
可選地,所述驅動裝置為伺服電機或步進電機。
可選地,所述玻璃基板為柔性玻璃基板。
基于上述技術方案,本公開還提供一種掩膜板,該掩膜板為本公開提供的曝光機中的掩膜板。
基于上述技術方案,一種玻璃基板曝光方法,用于在所述玻璃基板上制作尺寸相同且相互間隔的多個顯示器,所述顯示器在所述玻璃基板的長度方向的尺寸為L1,任意兩個沿所述玻璃基板長度方向相鄰的顯示器之間的間距為L2,該曝光方法使用本公開提供的曝光機對所述玻璃基板進行曝光,所述曝光方法包括,
傳送裝置傳送所述玻璃基板經過所述掩膜板;
所述掩膜板繞軸線回轉,所述光源通過透光孔照射所述玻璃基板。
可選地,當掩膜板的截面周長L3=L1+L2時,所述曝光方法包括,傳感器檢測傳送裝置的運動速度V并向控制器發送信號,控制器接收該信號并啟動驅動裝置,掩膜板開始轉動直至曝光完成。
可選地,所述曝光機為根據權利要求4所述的曝光機,當掩膜板的截面周長L3為任意值時,所述曝光方法包括,
S1:傳感器檢測傳送裝置的運動速度V并向控制器發送信號,控制器接收該信號啟動驅動裝置,經過時間T1,且T1·V=L1時,控制器控制驅動裝置停止,
S2:經過時間T2,且T2·V=L2時,重復S1,
重復S1和S2步驟至曝光完成。
通過上述技術方案,由于顯示器屬于矩陣型部件,其各行的顯示單元基本一致,因此使用本公開提供的曝光機制作顯示器時,由于其掩膜板形成為可回轉的筒狀結構,僅需在掩膜板的筒壁上制作包含一個顯示器的完整顯示矩陣或者制作一行或多行顯示單元的透光孔,并且在曝光中控制掩膜板回轉即能夠連續地曝光玻璃基板,本公開提供的掩膜板解除了玻璃基板尺寸對掩膜板尺寸的限制,降低掩膜板的制作難度,節省生產成本,除此之外,減小掩膜板的尺寸也能夠減弱光線在掩膜板邊緣的畸變。具有該掩膜板的曝光機除了同樣具有上述優點以外,還能夠進行玻璃基板的連續曝光,提高生產效率,同時該曝光機也適用于柔性玻璃基板的曝光加工,適用范圍廣,能夠顯著提升經濟效益。
本公開的其他特征和優點將在隨后的具體實施方式部分予以詳細說明。
附圖說明
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G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
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G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





