[發(fā)明專利]掩模版的制作方法及曲面液晶面板的制作方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201611235139.X
• 申請(qǐng)日: 2016-12-28
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN106773168B
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-01-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 林碧芬
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G02F1/13
• 分類號(hào): G02F1/13;G02F1/1335;G03F7/00;G03F1/00
• 代理公司: 44202 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司
• 代理人: 郝傳鑫;熊永強(qiáng)

1.一種掩模版的制作方法，所述掩模版應(yīng)用于曲面液晶面板的黑色矩陣的制作過(guò)程中，其特征在于，所述掩模版的制作方法包括：

對(duì)盒測(cè)試陣列基板和測(cè)試彩膜基板以形成測(cè)試液晶盒，所述測(cè)試液晶盒包括用于形成黑色矩陣的測(cè)試制備表面，所述測(cè)試制備表面位于所述測(cè)試陣列基板遠(yuǎn)離所述測(cè)試彩膜基板的一側(cè)或所述測(cè)試彩膜基板遠(yuǎn)離所述測(cè)試陣列基板的一側(cè)，所述測(cè)試液晶盒不包括黑色矩陣；

彎曲所述測(cè)試液晶盒至預(yù)定形狀，其中，所述預(yù)定形狀對(duì)應(yīng)于所述曲面液晶面板的形狀，所述預(yù)定形狀為具有預(yù)定曲率半徑的弧形；

點(diǎn)亮所述測(cè)試液晶盒；

在所述測(cè)試制備表面上量測(cè)漏光區(qū)域的尺寸，所述漏光區(qū)域的尺寸包括所述漏光區(qū)域中心點(diǎn)與所述測(cè)試制備表面中心點(diǎn)之間的距離和所述漏光區(qū)域的輪廓尺寸；以及

依據(jù)所述漏光區(qū)域的尺寸形成對(duì)應(yīng)的掩模版；

其中，所述“依據(jù)所述漏光區(qū)域的尺寸形成對(duì)應(yīng)的掩模版”包括：

提供襯底；

依據(jù)所述漏光區(qū)域的尺寸在所述襯底上形成圖案化的凹槽，所述凹槽的圖形對(duì)應(yīng)于所述漏光區(qū)域，以形成所述掩模版。

2.如權(quán)利要求1所述的掩模版的制作方法，其特征在于，所述“依據(jù)所述漏光區(qū)域的尺寸在所述襯底上形成圖案化的凹槽”中的所述漏光區(qū)域的尺寸為單個(gè)所述測(cè)試液晶盒的漏光區(qū)域的尺寸。

3.如權(quán)利要求1所述的掩模版的制作方法，其特征在于，所述“依據(jù)所述漏光區(qū)域的尺寸在所述襯底上形成圖案化的凹槽”中的所述漏光區(qū)域的尺寸為同一批次的多個(gè)所述測(cè)試液晶盒的漏光區(qū)域的尺寸的平均值。

4.如權(quán)利要求1～3任一項(xiàng)所述的掩模版的制作方法，其特征在于，所述漏光區(qū)域的輪廓尺寸包括所述漏光區(qū)域的每個(gè)輪廓邊的長(zhǎng)度和/或所述漏光區(qū)域的每個(gè)輪廓端點(diǎn)與所述測(cè)試制備表面中心點(diǎn)之間的距離。

5.一種曲面液晶面板的制作方法，其特征在于，包括：

對(duì)盒陣列基板和彩膜基板以形成液晶盒，所述液晶盒包括用于形成黑色矩陣的制備表面，所述制備表面位于所述陣列基板遠(yuǎn)離所述彩膜基板的一側(cè)或所述彩膜基板遠(yuǎn)離所述陣列基板的一側(cè)；

通過(guò)掩模版在所述制備表面形成黑色矩陣，所述掩模版由權(quán)利要求1～4任一項(xiàng)所述的掩模版的制作方法制作而成。

6.如權(quán)利要求5所述的曲面液晶面板的制作方法，其特征在于，還包括：

在所述液晶盒的遠(yuǎn)離所述黑色矩陣的一側(cè)形成第一偏光片，在所述黑色矩陣的遠(yuǎn)離所述液晶盒的一側(cè)形成第二偏光片，以形成待彎曲液晶面板，其中，所述第一偏光片與所述第二偏光片之間具有所述液晶盒；

彎曲所述待彎曲液晶面板，以形成曲面液晶面板。

7.如權(quán)利要求5所述的曲面液晶面板的制作方法，其特征在于，所述“通過(guò)掩模版在所述制備表面形成黑色矩陣”包括：

在所述制備表面上形成黑色矩陣涂層；

通過(guò)納米壓印技術(shù)將所述掩模版的所述凹槽的圖形轉(zhuǎn)印至所述黑色矩陣涂層上，以形成所述黑色矩陣。

8.如權(quán)利要求7所述的曲面液晶面板的制作方法，其特征在于，所述納米壓印技術(shù)為熱壓印技術(shù)或激光納米壓印技術(shù)。