[發明專利]UV冷轉印雙面鐳射工藝

在審

• 申請號: 201611231103.4
• 申請日: 2016-12-28
• 公開（公告）號: CN106626853A
• 公開（公告）日: 2017-05-10
• 發明（設計）人: 田宜謹;李學迪;張磊;姜思泉;李濤;張國紅
• 申請（專利權）人: 山東泰寶包裝制品有限公司
• 主分類號: B41M5/382
• 分類號: B41M5/382;B41M3/14
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種UV冷轉印雙面鐳射工藝，其特征在于步驟如下：

1)PET薄膜涂布：采用網紋涂布輥來進行上膠涂布，在PET薄膜的一面涂布PET鐳射模壓涂層，其涂布均勻，涂布量控制在1.0-1.3g/m²，涂布溫度90-150℃，涂布干燥時間10-15s；

2)模壓：對涂布層進行鐳射模壓，模壓溫度為130-180℃，模壓速度為30-60m/min；

3)復卷：對模壓完成的產品進行復卷，釋放在模壓過程中薄膜攜帶的熱量和薄膜受熱變形造成的張力不均勻，防止薄膜變形，保護鐳射圖案不受損傷；

4)UV鐳射轉移：在PET薄膜的另一面進行UV鐳射轉移生產，采用BOPP鐳射轉移薄膜作為鐳射圖案模板，涂布鐳射光油，然后PET薄膜上光油面與BOPP鐳射轉移膜鐳射信息面復合在一起，經過UV干燥裝置進行干燥處理，UV燈功率：10-15kw，車速20-40米/分鐘，干燥后兩層薄膜剝離開來，BOPP鐳射轉移膜表面的鐳射信息轉移到PET薄膜UV光油層上，形成PET正反雙面鐳射效果；

5)鐳射層保護：PET薄膜上的涂布模壓層進行真空鍍鋁加工，形成鍍鋁層。